[實(shí)用新型]石英掩膜結(jié)構(gòu)體有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821909824.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-11-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209412300U | 公開(公告)日: | 2019-09-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 代瑞娜;張曉軍;李炳坤;胡凱;陳志強(qiáng);方安安;姜鷺;潘恒;王巖;王峻嶺 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市矩陣多元科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司: | 深圳市華優(yōu)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44319 | 代理人: | 余薇 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)西*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 石英掩膜 基底孔 結(jié)構(gòu)體 鍍膜 薄膜材料 基底 沉積薄膜材料 本實(shí)用新型 薄膜加工 薄膜生長(zhǎng) 薄膜制造 邊緣模糊 工作效率 脈沖激光 重影效果 便捷性 掩膜板 正對(duì) 切割 收容 污染 | ||
1.一種石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,包括第一石英掩膜框、第二石英掩膜框以及設(shè)置在所述第一石英掩膜框和第二第一石英掩膜框之間的石英掩膜板,所述第二石英掩膜框底部設(shè)置有收容所述石英掩膜板的凹槽,所述第一石英掩膜框設(shè)置有多個(gè)用于剛好收容多個(gè)小面積基底的基底孔,所述第二石英掩膜框?qū)?yīng)設(shè)置有多個(gè)正對(duì)所述第一石英掩膜板的基底孔的鍍膜孔,用于通過脈沖激光對(duì)收容在所述基底孔內(nèi)的基底進(jìn)行鍍膜,所述石英掩膜板設(shè)置有掩膜板孔,所述鍍膜孔的尺寸略小于所述石英掩膜板的尺寸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述鍍膜孔和基底孔呈網(wǎng)格排列。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述第一石英掩膜框和第二石英掩膜框的邊緣還對(duì)應(yīng)設(shè)置有用于所述基底孔和鍍膜孔對(duì)齊的定位孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述第一石英掩膜框和第二石英掩膜框的邊緣還對(duì)應(yīng)設(shè)置有用于緊固所述第一石英掩膜板和第二石英掩膜板的緊固件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述的掩膜板厚度不超過0.2mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求書1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述基底對(duì)應(yīng)一個(gè)或者多個(gè)掩膜板孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述緊固件為螺絲、螺栓或固定夾具。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述第一石英掩膜板的基底孔的深度等于基底的厚度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述鍍膜孔和基底孔為圓形、矩形或方形。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石英掩膜結(jié)構(gòu)體,其特征在于,所述基底孔的尺寸略大于基底。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





