[實用新型]一種高品質硅片清洗系統

有效

• 申請號: 201821903645.6
• 申請日: 2018-11-19
• 公開（公告）號: CN210187873U
• 公開（公告）日: 2020-03-27
• 發明（設計）人: 王冬雪;高樹良;谷守偉;趙越;崔偉;侯建明;郭志榮;郭俊文
• 申請（專利權）人: 內蒙古中環光伏材料有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/12;B08B3/04;H01L21/67
• 代理公司: 天津諾德知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 12213
• 代理人: 欒志超

1.一種高品質硅片清洗系統，其特征在于：包括第一藥液清洗部、第一溢流清洗部、第二藥液清洗部、酸洗部和第二溢流清洗部，所述第一藥液清洗部、所述第一溢流清洗部、所述第二藥液清洗部、所述酸洗部和所述第二溢流清洗部依次設置，通過移動抓取裝置連通；

所述第一藥液清洗部包括第一超聲清洗藥液部、第二超聲清洗藥液部和超聲清洗部，所述第一超聲清洗藥液部、所述第二超聲清洗藥液部與所述超聲清洗部依次設置，所述第一超聲清洗藥液部與第二超聲清洗藥液部均設有清洗藥液溶液，所述超聲清洗部設有清洗劑溶液；

第二藥液清洗部包括鼓泡清洗部，所述鼓泡清洗部設有第二藥液；

所述酸洗部包括超聲酸洗部，所述超聲酸洗部設有酸溶液，所述酸溶液為檸檬酸。

2.根據權利要求1所述的高品質硅片清洗系統，其特征在于：還包括預清洗部和慢提拉部，所述預清洗部設于所述第一藥液清洗部之前，所述慢提拉部設于所述第二溢流清洗部之后。

3.根據權利要求2所述的高品質硅片清洗系統，其特征在于：所述第二溢流清洗部包括第一超聲溢流部、第二超聲溢流部和第三超聲溢流部，所述第一超聲溢流部、所述第二超聲溢流部和所述第三超聲溢流部依次設置，且所述第一超聲溢流部、所述第二超聲溢流部和所述第三超聲溢流部均設有純水。