[實用新型]一種緩變摻雜終端結構

有效

• 申請號: 201821887879.6
• 申請日: 2018-11-16
• 公開（公告）號: CN208889660U
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 胡興正;陳虞平;劉海波
• 申請（專利權）人: 南京華瑞微集成電路有限公司
• 主分類號: H01L29/06
• 分類號: H01L29/06;H01L29/40;H01L21/266
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種緩變摻雜終端結構，該終端結構包括外延襯底，所述外延襯底內端上部設有主結，所述主結外側的外延襯底內上部設有場限環，所述主結的外側與場限環的內側連接，所述場限環為從內向外的深度由淺變深的連續層狀結構，所述外延襯底的上側設有掩蔽層，所述掩蔽層的上側設有場板。本實用新型結合緩變技術和場版技術，能有效的平衡終端電場分布，提高終端耐壓效率，減小終端尺寸，耐壓550V的產品，利用該技術的終端尺寸可以減小到80?88um，耐壓650V的產品，利用該技術的終端尺寸可以減小到95?105um，耐壓700V的產品，利用該技術的終端尺寸可以減小到110um?124um。同時該終端結構可靠性高，工藝簡單，穩定性好，并可用于多種高壓器件。

技術領域

本發明涉及半導體領域，具體涉及一種緩變摻雜終端結構。

背景技術

當前高壓功率器件普遍采用場限環終端或場限環與場板組合形成終端，由于需要的環個數多而使終端的總長度很長，占用面積多，器件成本高。目前，也有些終端在使用緩變結技術的，如同申請號為201510716907.2提供的半導體器件的橫向變摻雜結終端結構及其制造方法，其內部還是一個個獨立的耐壓環結構，只是簡單的調整了耐壓環大小和間距，仍不夠優化，仍需占用較大的面積，器件成本仍高，且每個耐壓環上需要獨立場版，工藝復雜。

發明內容

本發明的目的是針對現有技術存在的不足，提供一種緩變摻雜終端結構。

為實現上述目的，本發明提供了一種緩變摻雜終端結構，包括外延襯底，所述外延襯底內端上部設有主結，所述主結外側的外延襯底內上部設有場限環，所述主結的外側與場限環的內側連接，所述場限環為從內向外的深度由淺變深的連續層狀結構，所述外延襯底的上側設有掩蔽層，所述掩蔽層的上側設有場板。

作為優選，所述掩蔽層的厚度為至

作為優選，所述場板的厚度為至

作為優選，所述場限環的最大深度為6至8μm。

有益效果：本發明結合緩變技術和場版技術，能有效的平衡終端電場分布，提高終端耐壓效率，減小終端尺寸，耐壓550V的產品，利用該技術的終端尺寸可以減小到80-88um，耐壓650V的產品，利用該技術的終端尺寸可以減小到95-105um，耐壓700V的產品，利用該技術的終端尺寸可以減小到110um-124um。同時該終端結構可靠性高，工藝簡單，穩定性好，并可用于多種高壓器件。

附圖說明

圖1是在襯底上設置掩蔽層后的結構示意圖；

圖2是在掩蔽層上設置開口區后的結構示意圖；

圖3是注入形成場限環區后的結構示意圖；

圖4是經推阱工藝后的結構示意圖；

圖5是本發明實施例的緩變摻雜終端結構的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例，進一步闡明本發明，本實施例在以本發明技術方案為前提下進行實施，應理解這些實施例僅用于說明本發明而不用于限制本發明的范圍。