[實用新型]一種緩變摻雜終端結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821887879.6
• 申請日: 2018-11-16
• 公開（公告）號: CN208889660U
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡興正;陳虞平;劉海波
• 申請（專利權(quán)）人: 南京華瑞微集成電路有限公司
• 主分類號: H01L29/06
• 分類號: H01L29/06;H01L29/40;H01L21/266
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種緩變摻雜終端結(jié)構(gòu)，包括外延襯底，所述外延襯底內(nèi)端上部設(shè)有主結(jié)，所述主結(jié)外側(cè)的外延襯底內(nèi)上部設(shè)有場限環(huán)，其特征在于，所述主結(jié)的外側(cè)與場限環(huán)的內(nèi)側(cè)連接，所述場限環(huán)為從內(nèi)向外的深度由淺變深的連續(xù)層狀結(jié)構(gòu)，所述外延襯底的上側(cè)設(shè)有掩蔽層，所述掩蔽層的上側(cè)設(shè)有場板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的緩變摻雜終端結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述掩蔽層的厚度為至

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的緩變摻雜終端結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述場板的厚度為至

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的緩變摻雜終端結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述場限環(huán)的最大深度為6至8μm。