[實用新型]一種掩模版取放裝置、曝光系統及光刻機

有效

• 申請號: 201821877705.1
• 申請日: 2018-11-14
• 公開（公告）號: CN208922065U
• 公開（公告）日: 2019-05-31
• 發明（設計）人: 沈雪;蘇延洪;柯汎宗;黃志凱;葉日銓
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種掩模版取放裝置，其特征在于，包括一對極性相反的電極板、正離子吸附組件、負離子吸附組件及一電源，所述電極板中的正極板連接于所述電源的正極，負極板連接于所述電源的負極，所述正離子吸附組件設置于所述負極板的靠近所述正極板的一端面上，所述負離子吸附組件設置于所述正極板的靠近所述負極板的一端面上，所述正離子吸附組件用于吸附所述掩模版周邊的硫酸根離子，所述負離子吸附組件用于吸附所述掩模版周邊的氨根離子。

2.如權利要求1所述的掩模版取放裝置，其特征在于，所述正離子吸附組件由正離子吸附材料組成，所述正離子吸附材料包括鎂鹽和磷鹽。

3.如權利要求1所述的掩模版取放裝置，其特征在于，所述負離子吸附組件由負離子吸附材料組成，所述負離子吸附材料包括Ba²⁺或Ca²⁺。

4.如權利要求1所述的掩模版取放裝置，其特征在于，包括一組或多組成對設置的所述正、負離子吸附組件。

5.如權利要求1所述的掩模版取放裝置，其特征在于，還包括傳感器和控制器，所述傳感器用于檢測環境中的所述硫酸根離子或所述氨根離子，所述傳感器與所述控制器通信連接，所述傳感器檢測到所述硫酸根離子或所述氨根離子時，所述控制器分別控制所述正、負極板通電。

6.如權利要求1所述的掩模版取放裝置，其特征在于，所述掩模版取放裝置為機械手臂或掩模版存儲裝置。

7.如權利要求6所述的掩模版取放裝置，其特征在于，所述掩模版存儲裝置為掩模版庫、掩模版盒或光刻機的掩模版緩存盒。

8.一種光刻機的曝光系統，其特征在于，包括如權利要求1-7任一項所述的一種掩模版取放裝置。

9.一種光刻機，其特征在于，包括如權利要求8所述的一種光刻機的曝光系統。