[實用新型]傳送不同污染程度硅片的導片機有效
| 申請號: | 201821832634.3 | 申請日: | 2018-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN209216929U | 公開(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發明(設計)人: | 顧丹霞 | 申請(專利權)人: | 上海華力集成電路制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人: | 欒美潔 |
| 地址: | 201315 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶圓盒 硅片傳送手臂 導片機 污染 硅片 本實用新型 污染類型 傳送 電性連接 硅片傳送 可滑動地 自動識別 誤操作 自清潔 導軌 調用 手臂 傳輸 | ||
1.一種傳送不同污染程度硅片的導片機,所述不同污染程度的硅片裝在相對應的晶圓盒中,每個晶圓盒具有一個ID信息,所述ID信息包括晶圓盒的污染類型,其特征在于,所述導片機包括控制單元、晶圓盒識別單元、多個硅片傳送手臂,所述晶圓盒識別單元和硅片傳送手臂均與控制單元電性連接,所述晶圓盒識別單元通過晶圓盒的ID信息判斷晶圓盒的污染程度并傳輸至控制單元中,每個硅片傳送手臂可滑動地設于一個傳送手臂導軌上。
2.根據權利要求1所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述導片機還設有清洗單元,包括清洗單元主體、酒精噴嘴和氮氣噴嘴,所述清洗單元主體設有供液管道和供氣管道,所述酒精噴嘴通過供液管道與供液裝置相連,所述氮氣噴嘴通過供氣管道與供氣裝置相連。
3.根據權利要求1或2所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述硅片傳送手臂包括FE硅片傳送手臂、HK硅片傳送手臂、BE硅片傳送手臂和CU硅片傳送手臂。
4.根據權利要求3所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述FE硅片傳送手臂、HK硅片傳送手臂、BE硅片傳送手臂和CU硅片傳送手臂對應的各傳送手臂導軌并列排布。
5.根據權利要求4所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述FE硅片傳送手臂、HK硅片傳送手臂、BE硅片傳送手臂和CU硅片傳送手臂位于相同高度;每個硅片傳送手臂的每一側都設有酒精噴嘴和氮氣噴嘴。
6.根據權利要求3所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述FE硅片傳送手臂、HK硅片傳送手臂、BE硅片傳送手臂和CU硅片傳送手臂對應的各傳送手臂導軌嵌套排布。
7.根據權利要求6所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述FE硅片傳送手臂、HK硅片傳送手臂、BE硅片傳送手臂和CU硅片傳送手臂位于相同高度;每個硅片傳送手臂的每一側都設有酒精噴嘴和氮氣噴嘴。
8.根據權利要求6所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述FE硅片傳送手臂、HK硅片傳送手臂、BE硅片傳送手臂和CU硅片傳送手臂沿豎直方向分布;酒精噴嘴和氮氣噴嘴設于最上方的硅片傳送手臂的每一側。
9.根據權利要求3所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,每個硅片傳送手臂都包括手臂部、滑動部和驅動裝置,所述驅動裝置與控制單元電性連接且與滑動部連接,所述滑動部的上端與手臂部連接,滑動部的下端與傳送手臂導軌滑動連接,所述滑動部在驅動裝置的帶動下沿傳送手臂導軌往復運動。
10.根據權利要求9所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述驅動裝置為電機或氣缸。
11.根據權利要求3所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述硅片傳送手臂和傳送手臂導軌中的一個安裝有電磁鐵,另一個安裝有與電磁鐵配合的電磁鐵或線圈,所述電磁鐵和線圈均與控制單元電性連接。
12.根據權利要求1所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述晶圓盒的ID信息為條形碼或二維碼,所述晶圓盒識別單元為讀碼器。
13.根據權利要求2所述的傳送不同污染程度硅片的導片機,其特征在于,所述供液管道和供氣管道上均設有閘閥,所述閘閥由控制單元控制。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





