[實用新型]真空鍍膜用多孔電弧靶材

有效

• 申請號: 201821814529.7
• 申請日: 2018-11-05
• 公開（公告）號: CN209338649U
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 徐明清
• 申請（專利權）人: 常州市邁瑞廷涂層科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258
• 代理人: 王美華

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，尤其是涉及一種真空鍍膜用多孔電弧靶材，包括座體及設置在座體上的電弧靶，所述座體的一端設置有凸緣，所述座體位于凸緣的一端開設有通道，所述通道沿座體軸向的一端延伸至另一端，所述電弧靶位于座體遠離凸緣的一端，所述電弧靶與通道之間形成凹槽，所述電弧靶遠離凹槽內的一端開設有若干盲孔，本實用新型真空鍍膜用多孔電弧靶材在使用時，通過在電弧靶位于座體上遠離凹槽內的一端開設若干盲孔，這樣就使得電弧靶的換熱面積增加，從而提高了電弧靶的換熱效率，也就提高了對真空鍍膜設備的冷卻，電弧靶的熱量降低，也就使得碳離子更活躍，涂層更加均勻，提高了產品表面光潔度。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜設備技術領域，尤其是涉及一種真空鍍膜用多孔電弧靶材。

背景技術

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。目前在真空鍍膜機鍍膜時鍍膜室中在蒸鍍，鍍膜室中殘留部分未蒸鍍到薄膜上的蒸氣，該蒸氣遇冷形成粉塵，粉塵在負壓的作用下被真空泵抽走，該粉塵影響真空泵正常作業，增大真空泵的能耗，嚴重時甚至會損壞真空泵。真空鍍膜設備擴散泵加熱是用耗電量比較高的電阻絲通過燒紅來烘烤真空鍋爐(擴散泵)底部，從而加熱里面的導熱油來使真空泵里面的溫度上升來達到設備的工作要求，導線接入區域溫度過高會導致觸電區域極易氧化虛接以及人身觸電的的危險，安全性低。現有真空鍍膜設備在制備涂層時，通過冷卻機構對靶材進行冷卻，由于熱量不能夠降低，使得靶材在濺射制備時，產品制備后的涂層表面粗糙度高，這就使得產品的摩擦系數增加，這樣就會降低了產品的使用壽命。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是：為了解決現有真空鍍膜設備在制備涂層時，通過冷卻機構對靶材進行冷卻，由于熱量不能夠降低，使得靶材在濺射制備時，產品制備后的涂層表面粗糙度高，這就使得產品的摩擦系數增加，這樣就會降低了產品的使用壽命的問題，現提供了一種真空鍍膜用多孔電弧靶材。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種真空鍍膜用多孔電弧靶材，包括座體及設置在座體上的電弧靶，所述座體的一端設置有凸緣，所述座體位于凸緣的一端開設有通道，所述通道沿座體軸向的一端延伸至另一端，所述電弧靶位于座體遠離凸緣的一端，所述電弧靶與通道之間形成凹槽，所述電弧靶遠離凹槽內的一端開設有若干盲孔。通過在電弧靶位于座體上遠離凹槽內的一端開設若干盲孔，這樣就使得電弧靶的換熱面積增加，從而提高了電弧靶的換熱效率，也就提高了對真空鍍膜設備的冷卻，電弧靶的熱量降低，也就使得碳離子更活躍，涂層更加均勻，提高了產品表面光潔度。

為了便于電弧靶的安裝，進一步地，所述電弧靶螺紋連接在座體上。電弧靶與座體之間螺紋連接固定，這樣便于電弧靶的安裝和維護。

為了保證電弧靶的冷卻效果，進一步地，若干所述盲孔均勻分布在電弧靶上。通過在將若干盲孔均勻分布，這樣保證電弧靶上換熱均勻，保證了電弧靶的冷卻效果。

本實用新型的有益效果是：本實用新型真空鍍膜用多孔電弧靶材在使用時，通過在電弧靶位于座體上遠離凹槽內的一端開設若干盲孔，這樣就使得電弧靶的換熱面積增加，從而提高了電弧靶的換熱效率，也就提高了對真空鍍膜設備的冷卻，電弧靶的熱量降低，也就使得碳離子更活躍，涂層更加均勻，提高了產品表面光潔度，避免了通過冷卻機構對靶材進行冷卻，由于熱量不能夠降低，使得靶材在濺射制備時，產品制備后的涂層表面粗糙度高，這就使得產品的摩擦系數增加，這樣就會降低了產品的使用壽命的問題。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的主視圖；

圖2是本實用新型中電弧靶的主視圖；

圖3是本實用新型中電弧靶的俯視圖。

圖中：1、座體，2、凸緣，3、通道，4、電弧靶，5、盲孔。