[實用新型]真空鍍膜用多孔電弧靶材有效

申請號：	201821814529.7	申請日：	2018-11-05
公開（公告）號：	CN209338649U	公開（公告）日：	2019-09-03
發明（設計）人：	徐明清	申請（專利權）人：	常州市邁瑞廷涂層科技有限公司
主分類號：	C23C14/34	分類號：	C23C14/34
代理公司：	常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258	代理人：	王美華
地址：	213000 江蘇省***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	電弧靶座體真空鍍膜凸緣本實用新型盲孔產品表面光潔度真空鍍膜設備熱效率鍍膜設備面積增加熱量降低一端設置碳離子座體軸換熱冷卻延伸
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【權利要求書】：

1.一種真空鍍膜用多孔電弧靶材，其特征在于：包括座體(1)及設置在座體(1)上的電弧靶(4)，所述座體(1)的一端設置有凸緣(2)，所述座體(1)位于凸緣(2)的一端開設有通道(3)，所述通道(3)沿座體(1)軸向的一端延伸至另一端，所述電弧靶(4)位于座體(1)遠離凸緣(2)的一端，所述電弧靶(4)與通道(3)之間形成凹槽，所述電弧靶(4)遠離凹槽內的一端開設有若干盲孔(5)。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜用多孔電弧靶材，其特征在于：所述電弧靶(4)螺紋連接在座體(1)上。

3.根據權利要求1或2所述的真空鍍膜用多孔電弧靶材，其特征在于：若干所述盲孔(5)均勻分布在電弧靶(4)上。

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