[實用新型]一種鍍膜設備沉積腔室和鍍膜設備

有效

• 申請號: 201821809037.9
• 申請日: 2018-11-02
• 公開（公告）號: CN209555351U
• 公開（公告）日: 2019-10-29
• 發明（設計）人: 田保峽;聞益;曲士座
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/06;H01L31/18
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 許志勇

1.一種鍍膜設備沉積腔室，在所述沉積腔室的底板上設置有金屬蒸發源和非金屬蒸發源，其特征在于，在所述底板上設置有N排非金屬蒸發源，每排非金屬蒸發源包括M個沿第一預設方向設置的非金屬蒸發源；

在第一預設方向上，所述N排非金屬中至少包括一排非金屬蒸發源的首端、末端的非金屬蒸發源較其他排的首端、末端錯位預設距離；

其中，M為大于等于8小于等于15的整數，N為大于等于2的整數；每排中的相鄰兩個非金屬蒸發源之間的間距為一定值。

2.根據權利要求1所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，沿所述底板的長度方向設置N排非金屬蒸發源；

若N大于3，則在所述底板上設置的N排非金屬蒸發源中：

相鄰兩排非金屬蒸發源中，在第一預設方向上，位于一排的首端、末端的所述非金屬蒸發源較另一排的首端、末端的所述非金屬蒸發源均錯位預設距離；

間隔一排非金屬蒸發源的兩排非金屬蒸發源中：沿底板的寬度方向一一對齊設置。

3.根據權利要求2所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，所述N排非金屬蒸發源中，沿寬度方向，一側的相鄰的三排非金屬蒸發源為一組，在底板的長度方向上：

每組中的第二排非金屬蒸發源的首端、末端相對于該組中的第一排非金屬蒸發源的首端、末端均錯位預設距離；

在第一預設方向的反方向上，每組中的第三排非金屬蒸發源的首端、末端相對于該組中的第一排非金屬蒸發源的首端、末端均錯位預設距離；其中，不足三排的按一組計算。

4.根據權利要求1所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，當N大于等于4時，沿底板的長度方向設置的N排非金屬蒸發源中，至少包括兩排相鄰且在寬度方向上一一對齊設置的非金屬蒸發源。

5.根據權利要求1所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，所述金屬蒸發源的中心線與垂直于所述沉積腔室的底部的直線的傾斜角度均為20-45度。

6.根據權利要求1所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，所述非金屬蒸發源的中心線與垂直于所述沉積腔室的底部的直線的傾斜角度均為0-60度。

7.根據權利要求1-6任一項所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，所述非金屬蒸發源包括Se蒸發源。

8.根據權利要求1-6任一項所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，所述N排非金屬蒸發源中，相鄰兩排非金屬蒸發源間隔排布。

9.根據權利要求1-6任一項所述的鍍膜設備沉積腔室，其特征在于，所述金屬蒸發源包括Cu蒸發源、In蒸發源和Ga蒸發源，所述Cu蒸發源、In蒸發源與Ga蒸發源的總數量為P對，其中P為大于等于8小于等于15的整數。

10.一種鍍膜設備，其特征在于，包括如權利要求1～9任一項所述的鍍膜設備沉積腔室。