[實用新型]一種電子束蒸鍍ITO膜的蒸鍍裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821782720.8 | 申請日: | 2018-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN209128527U | 公開(公告)日: | 2019-07-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 唐安泰 | 申請(專利權)人: | 株洲火炬安泰新材料有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/08 | 分類號: | C23C14/08;C23C14/30 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 任重;馮振寧 |
| 地址: | 412007 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸鍍裝置 真空腔 電子束蒸鍍 內螺紋管 螺紋桿 本實用新型 基板支架 蒸鍍材料 安裝槽 安裝塊 安裝座 托板 底部內壁 頂部內壁 活動安裝 支撐裝置 轉動安裝 轉動連接 內螺紋 低端 底端 掛鉤 延伸 | ||
本實用新型屬于電子束蒸鍍技術領域,尤其為一種電子束蒸鍍ITO膜的蒸鍍裝置,包括蒸鍍裝置本體,所述蒸鍍裝置本體上開設有真空腔,所述真空腔內設有基板支架,所述基板支架與真空腔的頂部內壁轉動連接,所述真空腔的底部內壁上固定安裝有安裝座,所述安裝座的頂部開設有安裝槽,所述安裝槽內活動安裝有托板,所述托板的兩側均固定安裝有安裝塊,所述安裝塊上轉動安裝有內螺紋管,所述內螺紋管內螺紋安裝有螺紋桿,所述螺紋桿的頂端和低端均延伸至內螺紋管外,所述螺紋桿的底端固定安裝有掛鉤。本實用新型操作簡單,實用性強,方便蒸鍍材料的放置,同時,便于對蒸鍍材料支撐裝置進行清理,提高ITO膜的質量。
技術領域
本實用新型涉及電子束蒸鍍技術領域,尤其涉及一種電子束蒸鍍ITO膜的蒸鍍裝置。
背景技術
電子束蒸鍍是物理氣相沉積的一種,與傳統(tǒng)蒸鍍方式不同,電子束蒸鍍利用電磁場的配合可以精準地實現(xiàn)利用高能電子轟擊蒸鍍材料,使之融化進而沉積在基片上,電子束蒸鍍可以鍍出高純度高精度的薄膜,現(xiàn)有技術中,通過蒸鍍裝置制造ITO模,經(jīng)檢索,授權公告號為CN203530419U的專利文件公開了一種電子束蒸鍍ITO膜的蒸鍍裝置,用于LED芯片的制造,其特征在于:所述真空室的一側設置有等離子槍,所述等離子槍作為蒸發(fā)源,本實用新型的優(yōu)點是,采用等離子槍作為蒸發(fā)源,利用低電壓高電流電子束蒸鍍ITO薄膜,同傳統(tǒng)高電壓低電流電子束蒸鍍比較,對基板的損傷大幅度降低,通過控制蒸鍍條件,如基板溫度,膜層厚度和蒸發(fā)速率等來沉積ITO薄膜,能夠制備出平均透過率大,方阻小的薄膜,滿足作為P型電極的光電特性,在蒸鍍材料蒸發(fā)通過等離子區(qū)時,被等離子體離化,二次獲得能量,從而獲得良好的大晶粒、高透過率ITO薄膜,且由于ITO薄膜晶體顆粒大,提高了ITO薄膜的霍耳遷移率,降低了其方塊電阻。
但是,現(xiàn)有技術中,蒸鍍材料支撐裝置為固定設置,不便于放置蒸鍍材料,同時,當需要清理時,不便于對其拆卸清理,影響ITO膜的質量,為此,提出一種電子束蒸鍍ITO膜的蒸鍍裝置。
實用新型內容
本實用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術中存在的缺點,而提出的一種電子束蒸鍍ITO膜的蒸鍍裝置。
為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用了如下技術方案:一種電子束蒸鍍ITO膜的蒸鍍裝置,包括蒸鍍裝置本體,所述蒸鍍裝置本體上開設有真空腔,所述真空腔內設有基板支架,所述基板支架與真空腔的頂部內壁轉動連接,所述真空腔的底部內壁上固定安裝有安裝座,所述安裝座的頂部開設有安裝槽,所述安裝槽內活動安裝有托板,所述托板的兩側均固定安裝有安裝塊,所述安裝塊上轉動安裝有內螺紋管,所述內螺紋管內螺紋安裝有螺紋桿,所述螺紋桿的頂端和低端均延伸至內螺紋管外,所述螺紋桿的底端固定安裝有掛鉤,所述安裝座的頂部開設有兩個滑動槽,兩個滑動槽為位于安裝槽的兩側,所述滑動槽內滑動安裝有滑塊,所述滑塊的底部與滑動槽的底部內壁滑動連接,所述滑塊的頂部固定安裝有固定塊,所述固定塊靠近托板的一側開設有通孔,所述通孔與掛鉤相適配,所述滑動槽內設有彈簧,所述彈簧的一端與滑動槽的內壁固定連接,所述彈簧的另一端與滑塊固定連接。
優(yōu)選的,所述安裝塊的頂部開設有轉動孔,所述轉動孔的內壁與內螺紋管轉動連接。
優(yōu)選的,所述內螺紋管的頂端延伸至轉動孔外并固定安裝有轉盤。
優(yōu)選的,所述滑動槽內固定安裝有滑動桿,所述滑動桿與滑塊滑動連接,且彈簧滑動套設在滑動桿的外側。
優(yōu)選的,所述固定塊的一側固定安裝有把手,所述把手位于通孔的上方。
優(yōu)選的,所述螺紋桿的頂端固定安裝有限位塊,所述彈簧的勁度系數(shù)為1N/m-2N/m。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





