[實用新型]光處理裝置的控制系統、發光裝置及硅膠表面處理裝置

有效

• 申請號: 201821755457.3
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN209659683U
• 公開（公告）日: 2019-11-19
• 發明（設計）人: 路如旃;蘇紅宏
• 申請（專利權）人: 浙江清華柔性電子技術研究院
• 主分類號: H05B37/02
• 分類號: H05B37/02;H05B3/02
• 代理公司: 33250 杭州華進聯浙知識產權代理有限公司
• 代理人: 舒丁<國際申請>=<國際公布>=<進入國

本實用新型涉及一種光處理裝置的控制系統、發光裝置及硅膠表面處理裝置，用于調節光源的溫度和功率，其特征在于，所述光處理裝置的控制系統包括：光處理裝置、溫度控制模塊和功率控制模塊。上述光處理裝置的控制系統、發光裝置及硅膠表面處理裝置使用溫度檢測單元和功率檢測單元對光源的溫度及功率進行檢測，并通過溫度控制單元和功率控制單元對溫度調節單元和功率調節單元對光源的溫度和功率進行調節，從而使光源維持在低溫狀態，對光源起到了較好的保護作用，也保證所處理產品表面滿足要求的處理溫度，從而提高所處理產品的高通過率，同時使光源輻射的紫外光線維持在要求的穩定數值，保證硅膠產品表面處理性能的一致性。

技術領域

本實用新型涉及光處理技術領域，特別是涉及一種光處理裝置的控制系統、發光裝置及硅膠表面處理裝置。

背景技術

紫外線除用來消毒和殺菌外，廣泛應用在硅膠的表面處理。硅膠的表面處理是采用臭氧和紫外光線等產生的一系列復雜的反應，使硅膠表面滿足一定的要求。

在硅膠產品表面處理的時候，需要光源輻射穩定功率的紫外波段的光線，并且為保護硅膠產品內部的電子電路或者硅膠產品的溫度，需要硅膠產品輻射面的溫度不能超過一定的界限，而光源在工作的過程中，本體的溫度會升高，光源本體溫度的升高會造成光源的壽命減少，同時輻射到硅膠產品表面的熱量會增高，造成硅膠產品輻射面溫度的升高；另外，在硅膠產品表面處理的過程中，光源的紫外波段的光線是一種衰減的曲線，無法穩定輸出，會導致硅膠產品表面處理性能不一致。

實用新型內容

基于此，有必要針對光源在工作的過程中，本體的溫度會升高，光源本體溫度的升高會造成光源的壽命減少，同時輻射到硅膠產品表面的熱量會增高，造成硅膠產品輻射面溫度的升高和在硅膠產品表面處理的過程中，光源的紫外波段的光線是一種衰減的曲線，無法穩定輸出，會導致硅膠產品表面處理性能不一致問題，提供一種光處理裝置的控制系統、發光裝置及硅膠表面處理裝置。

一種光處理裝置的控制系統，光處理裝置包括選擇性的吸收或透過光源光線的液態介質,用于對光源的光進行處理,所述光處理裝置的控制系統包括：

溫度控制模塊，

所述溫度控制模塊包括溫度檢測單元、溫度控制單元和溫度調節單元；

所述溫度檢測單元與所述溫度控制單元相連，以將檢測的所述光源和/或液態介質的溫度信息傳送給所述溫度控制單元；

所述溫度控制單元與溫度調節單元連接，以根據所述溫度信息控制溫度調節單元調節所述液態介質的溫度。

在其中一個實施例中，所述光處理裝置的控制系統還包括功率控制模塊，

所述功率控制模塊包括功率檢測單元、功率控制單元和功率調節單元；

所述功率檢測單元與所述功率控制單元相連，以將檢測的所述光源和/或透過液態介質的光線的功率信息傳送給所述功率控制單元；

所述功率控制單元與所述功率調節單元連接，以根據所述功率信息控制功率調節單元調節所述光源的功率。

在其中一個實施例中，所述光處理裝置還包括殼體，所述殼體包括出光面，所述光源與所述出光面之間有液態介質，所述光源發出的光通過液態介質選擇性的吸收或透過后從出光面透出。

在其中一個實施例中，所述溫度檢測單元包括溫度傳感器，所述溫度傳感器設置于所述液態介質中。

在其中一個實施例中，所述溫度檢測單元與所述溫度控制單元通過溫度傳感器信號相連。

在其中一個實施例中，所述溫度調節單元包括散熱流道，所述散熱流道包括傳輸管道、液體泵和散熱器，所述液體泵和散熱器設置于所述傳輸管道上，所述液體泵將所述液態介質送入所述傳輸管道一端，經過所述散熱器散熱后從傳輸管道另一端輸出。