[實(shí)用新型]光處理裝置的控制系統(tǒng)、發(fā)光裝置及硅膠表面處理裝置有效
申請?zhí)枺?/td> | 201821755457.3 | 申請日: | 2018-10-26 |
公開(公告)號: | CN209659683U | 公開(公告)日: | 2019-11-19 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 路如旃;蘇紅宏 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江清華柔性電子技術(shù)研究院 |
主分類號: | H05B37/02 | 分類號: | H05B37/02;H05B3/02 |
代理公司: | 33250 杭州華進(jìn)聯(lián)浙知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 舒丁<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入國 |
地址: | 314006 浙江省嘉興*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 光處理裝置 光源 控制系統(tǒng) 處理裝置 發(fā)光裝置 硅膠表面 表面處理性能 功率調(diào)節(jié)單元 功率檢測單元 功率控制單元 功率控制模塊 溫度調(diào)節(jié)單元 溫度檢測單元 溫度控制單元 溫度控制模塊 本實(shí)用新型 產(chǎn)品表面 低溫狀態(tài) 光源輻射 硅膠產(chǎn)品 紫外光線 通過率 保證 檢測 | ||
1.一種光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,光處理裝置包括選擇性的吸收或透過光源光線的液態(tài)介質(zhì),用于對光源的光進(jìn)行處理,所述控制系統(tǒng)包括溫度控制模塊,
所述溫度控制模塊包括溫度檢測單元、溫度控制單元和溫度調(diào)節(jié)單元;
所述溫度檢測單元與所述溫度控制單元相連,以將檢測的所述光源和/或液態(tài)介質(zhì)的溫度信息傳送給所述溫度控制單元;
所述溫度控制單元與溫度調(diào)節(jié)單元連接,以根據(jù)所述溫度信息控制溫度調(diào)節(jié)單元調(diào)節(jié)所述液態(tài)介質(zhì)的溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述光處理裝置的控制系統(tǒng)還包括功率控制模塊,
所述功率控制模塊包括功率檢測單元、功率控制單元和功率調(diào)節(jié)單元;
所述功率檢測單元與所述功率控制單元相連,以將檢測的所述光源和/或透過液態(tài)介質(zhì)的光線的功率信息傳送給所述功率控制單元;
所述功率控制單元與所述功率調(diào)節(jié)單元連接,以根據(jù)所述功率信息控制功率調(diào)節(jié)單元調(diào)節(jié)所述光源的功率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述光處理裝置還包括殼體,所述殼體包括出光面,所述光源與所述出光面之間有液態(tài)介質(zhì),所述光源發(fā)出的光通過液態(tài)介質(zhì)選擇性的吸收或透過后從出光面透出。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述溫度檢測單元包括溫度傳感器,所述溫度傳感器設(shè)置于所述液態(tài)介質(zhì)中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述溫度檢測單元與所述溫度控制單元通過溫度傳感器信號相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述溫度調(diào)節(jié)單元包括散熱流道,所述散熱流道包括傳輸管道、液體泵和散熱器,所述液體泵和散熱器設(shè)置于所述傳輸管道上,所述液體泵將所述液態(tài)介質(zhì)送入所述傳輸管道一端,經(jīng)過所述散熱器散熱后從傳輸管道另一端輸出。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述功率檢測單元包括輻照傳感器,所述輻照傳感器設(shè)置于所述殼體的出光面位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述功率檢測單元與所述功率控制單元通過輻照傳感器信號相連。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述功率調(diào)節(jié)單元包括鎮(zhèn)流器,所述鎮(zhèn)流器連接光源,所述功率控制單元連接所述鎮(zhèn)流器以通過鎮(zhèn)流器調(diào)節(jié)所述光源的功率。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光處理裝置的控制系統(tǒng),其特征在于,所述溫度控制單元和功率控制單元為同一控制器。
11.一種發(fā)光裝置,其特征在于,包括光源以及如權(quán)利要求1-10任一項所述的光處理裝置的控制系統(tǒng)。
12.一種硅膠表面處理裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求11所述的發(fā)光裝置,還包括箱體,所述發(fā)光裝置設(shè)置在箱體內(nèi),所述光處理裝置的控制系統(tǒng)還包括空氣處理模塊,所述箱體與空氣處理模塊連接。
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