[實用新型]一種具有紅外加熱裝置的陰極結構

有效

• 申請號: 201821746449.2
• 申請日: 2018-10-26
• 公開（公告）號: CN208933464U
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發明（設計）人: 華建軍;湛克宇
• 申請（專利權）人: 惠州市天譽科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 惠州創聯專利代理事務所(普通合伙) 44382
• 代理人: 趙瑾

本實用新型涉及一種具有紅外加熱裝置的陰極結構，包括靶臺，所述靶臺包括大體呈長方體的外殼、以及設置在所述外殼內的靶材，所述外殼上設有用于提升陰極溫度的紅外加熱裝置，所述紅外加熱裝置包括座體和加熱件，所述座體與所述外殼連接，所述加熱件固設在所述座體內。本實用新型通過在陰極的靶臺兩側設置紅外加熱裝置，鍍膜時，可提升陰極鍍膜區（靶材四周）的溫度，從而縮短陰極預濺射的時間，在不浪費靶材的前提下制備出高質量薄膜，實現了節約資源，降低實驗成本，提高效率的目的。

技術領域

本實用新型涉及塑料薄膜卷材生產技術領域，具體而言，涉及一種具有紅外加熱裝置的陰極結構。

背景技術

具有足夠能量的帶電粒子或中性粒子碰撞物體表面時，可把能量傳遞給表面的原子。只要表面原子獲得的能量大于本身的電離能，就能擺脫周圍原子的束縛而離開物體表面，這種現象稱為濺射。

磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使氬氣發生電離。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。通過更換不同材質的靶和控制不同的濺射時間，便可以獲得不同材質和不同厚度的薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻等優點。因此，磁控濺射鍍膜是工業鍍膜生產中最主要的技術之一。

鍍膜廠商普遍關心的問題是如何獲得附著力強、致密性好以及均勻度高的膜層。在濺射過程中，真空室真空度（即工藝氣體壓強）的大小、溫度的高低，靶面到基底的距離，濺射功率（即電壓、電流）的選取等諸多因素都會影響到膜層的質量。因此，在正式濺射前也會采取一些措施，例如預濺射一段時間，用來清除靶表面的吸附氣體、各種污染物和氧化物，因為這時從靶面脫離的原子能量不穩定，對膜層與基底的附著力和致密性會造成影響；如果靶面被污染，脫離的原子也不單單是陰極靶原子，破壞了膜層的成分。在各工藝參數達到穩態后才會對基底進行鍍膜。

通常情況下，通過陰極預濺射的方式來提高整個陰極區的溫度需要較長時間，對靶材的有效利用及生產效率有一定的影響。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種具有紅外加熱裝置的陰極結構，可以提升陰極鍍膜區的溫度，縮短陰極預濺射的時間，從而節約資源、降低成本、提高效率。

一種具有紅外加熱裝置的陰極結構，包括靶臺，所述靶臺包括大體呈長方體的外殼、以及設置在所述外殼內的靶材，所述外殼上設有用于提升陰極溫度的紅外加熱裝置，所述紅外加熱裝置包括座體和加熱件，所述座體與所述外殼連接，所述加熱件固設在所述座體內。

進一步的，所述座體包括連接端和開口端，所述連接端與所述外殼的側面連接，所述座體從連接端到開口端逐漸變寬，所述開口端形成有開口。

優選的，所述加熱件為紅外線燈管。

進一步的，所述紅外線燈管為兩條，平行設置在所述座體內，紅外線燈管的兩端與座體的兩端可分離連接。

進一步的，所述紅外加熱裝置的數量為兩個，分別設置在所述外殼較長一組對邊的外側。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：通過在陰極的靶臺兩側設置紅外加熱裝置，鍍膜時，可提升陰極鍍膜區（靶材四周）的溫度，從而縮短陰極預濺射的時間，在不浪費靶材的前提下制備出高質量薄膜，實現了節約資源，降低實驗成本，提高效率的目的。

附圖說明

圖1為本實用新型的具有紅外加熱裝置的陰極結構的結構示意圖。

圖2為圖1中紅外加熱裝置的結構示意圖。

具體實施方式