[實(shí)用新型]離子濺射儀

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821721176.6
• 申請日: 2018-10-23
• 公開（公告）號: CN209194043U
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李樂華;張志陽;張亮
• 申請（專利權(quán)）人: 欣旺達(dá)電子股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/50
• 代理公司: 深圳市明日今典知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44343
• 代理人: 王杰輝

本實(shí)用新型提供一種離子濺射儀，包括離子濺射儀本體和設(shè)置于離子濺射儀本體內(nèi)的自動旋轉(zhuǎn)樣品架，自動旋轉(zhuǎn)樣品架用于在離子濺射儀本體對樣品進(jìn)行濺射鍍膜時支撐并旋轉(zhuǎn)樣品。本實(shí)用新型提供的離子濺射儀，通過在離子濺射儀本體上設(shè)置自動旋轉(zhuǎn)樣品架，實(shí)現(xiàn)離子濺射儀對樣品進(jìn)行噴鍍的同時，對樣品進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對樣品進(jìn)行全面地、均勻地噴鍍，避免了因噴鍍不均勻或局部噴鍍不到位，而需進(jìn)行重復(fù)噴鍍，造成不必要的浪費(fèi)，降低了對靶頭的消耗。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型主要涉及離子濺射鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種離子濺射儀。

背景技術(shù)

離子濺射儀鍍膜是在部分真空的濺射室中輝光放電產(chǎn)生帶正電荷的氣體離子，在陰極和陽極之間電壓的加速作用下，帶正電荷的氣體離子轟擊陰極表面使陰極表面材料原子化形成中性原子，從各個方向濺出并濺落到試樣的表面，于是在試樣表面形成一層均勻的薄膜。離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、銀、鉑以及混合靶材等金屬元素消除了不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高了觀測效果。另外，還可以使用噴鍍附件對樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。目前的濺射儀樣品架為固定的，無法使濺射材料濺射到樣品的側(cè)面，降低了樣品的導(dǎo)電性，還無法實(shí)現(xiàn)樣品全面性和均勻性的噴鍍，使得在掃描電鏡中無法得到更加清晰的圖像。現(xiàn)階段需要得到清晰的圖像就要對樣品進(jìn)行多次噴鍍，既浪費(fèi)了材料，也消耗了靶頭，如果對樣品側(cè)面進(jìn)行噴鍍就需要對樣品側(cè)面進(jìn)行墊高，使樣品呈現(xiàn)一定的角度，如此往復(fù)，使側(cè)面獲得全部噴鍍，但是噴鍍的效果仍然不理想，得不到均勻噴鍍，鍍層薄的部分導(dǎo)電性不好，鍍層厚的部分影響樣品形貌，實(shí)驗達(dá)不到預(yù)期效果。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種離子濺射儀，以解決對樣品噴鍍的全面性、均勻性問題。

為解決上述問題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種離子濺射儀，包括離子濺射儀本體和設(shè)置于離子濺射儀本體內(nèi)的自動旋轉(zhuǎn)樣品架，自動旋轉(zhuǎn)樣品架用于在離子濺射儀本體對樣品進(jìn)行濺射鍍膜時支撐并旋轉(zhuǎn)樣品。

進(jìn)一步地，自動旋轉(zhuǎn)樣品架包括樣品盤、螺柱和發(fā)條盒，樣品盤與螺柱連接，螺柱與發(fā)條盒連接，樣品盤通過螺柱連接于發(fā)條盒上方，發(fā)條盒通過驅(qū)動螺柱旋轉(zhuǎn)來帶動樣品盤旋轉(zhuǎn)，樣品盤用于放置樣品。

進(jìn)一步地，樣品盤上設(shè)置有樣品樁放置孔，樣品樁放置孔均勻間隔分布于樣品盤上。

進(jìn)一步地，樣品盤上設(shè)置有樣品樁放置槽，樣品樁放置槽平行間隔分布于樣品盤上。

進(jìn)一步地，樣品盤上設(shè)有側(cè)面螺紋孔，通過螺釘穿過側(cè)面螺紋孔將樣品盤和螺柱連接。

進(jìn)一步地，樣品盤的盤面水平或豎直設(shè)置。

進(jìn)一步地，樣品盤的盤面傾斜設(shè)置。

進(jìn)一步地，樣品盤與螺柱轉(zhuǎn)動連接，樣品盤的盤面的角度可調(diào)。

有益效果：本實(shí)用新型提供的離子濺射儀，通過在離子濺射儀本體內(nèi)設(shè)置自動旋轉(zhuǎn)樣品架，實(shí)現(xiàn)離子濺射儀對樣品進(jìn)行噴鍍的同時，對樣品進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對樣品進(jìn)行全面地、均勻地噴鍍，避免了因噴鍍不均勻或局部噴鍍不到位，而需進(jìn)行重復(fù)噴鍍，造成不必要的浪費(fèi)，降低了對靶頭的消耗。本實(shí)用新型通過發(fā)條盒驅(qū)動樣品盤的旋轉(zhuǎn)，不需使用電機(jī)，無需改變常規(guī)離子濺射儀的現(xiàn)有線路，簡單易制作，通過較低廉的成本，實(shí)現(xiàn)均勻噴鍍效果。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的離子濺射儀結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例中的自動旋轉(zhuǎn)樣品架結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型另一實(shí)施例中的自動旋轉(zhuǎn)樣品架正視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為圖3所示實(shí)施例中的自動旋轉(zhuǎn)樣品架側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；