[實用新型]離子濺射儀有效
| 申請號： | 201821721176.6 | 申請日： | 2018-10-23 |
| 公開（公告）號： | CN209194043U | 公開（公告）日： | 2019-08-02 |
| 發明（設計）人： | 李樂華;張志陽;張亮 | 申請（專利權）人： | 欣旺達電子股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 深圳市明日今典知識產權代理事務所(普通合伙) 44343 | 代理人： | 王杰輝 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市寶安區石巖街道石*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 離子濺射儀 噴鍍 自動旋轉 樣品架 本實用新型 濺射鍍膜 不均勻 對靶 體內 消耗 支撐 重復 | ||
【權利要求書】：
1.一種離子濺射儀，其特征在于：包括離子濺射儀本體和設置于離子濺射儀本體內的自動旋轉樣品架，所述自動旋轉樣品架用于在離子濺射儀本體對樣品進行濺射鍍膜時支撐并旋轉所述樣品。
2.根據權利要求1所述的離子濺射儀，其特征在于：所述自動旋轉樣品架包括樣品盤、螺柱和發條盒，所述樣品盤與所述螺柱連接，所述螺柱與所述發條盒連接，所述樣品盤通過所述螺柱連接于所述發條盒上方，所述發條盒通過驅動所述螺柱旋轉來帶動所述樣品盤旋轉，所述樣品盤用于放置所述樣品。
3.根據權利要求2所述的離子濺射儀，其特征在于：所述樣品盤上設置有樣品樁放置孔，所述樣品樁放置孔均勻間隔分布于所述樣品盤上。
4.根據權利要求2所述的離子濺射儀，其特征在于：所述樣品盤上設置有樣品樁放置槽，所述樣品樁放置槽平行間隔分布于所述樣品盤上。
5.根據權利要求2所述的離子濺射儀，其特征在于：所述樣品盤上設有側面螺紋孔，通過螺釘穿過所述側面螺紋孔將樣品盤和所述螺柱連接。
6.根據權利要求2所述的離子濺射儀，其特征在于：所述樣品盤的盤面水平或豎直設置。
7.根據權利要求2所述的離子濺射儀，其特征在于：所述樣品盤的盤面傾斜設置。
8.根據權利要求2所述的離子濺射儀，其特征在于：所述樣品盤與所述螺柱轉動連接，所述樣品盤的盤面的角度可調。
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