[實(shí)用新型]曝光設(shè)備及具有該設(shè)備的光刻系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821698715.9
• 申請(qǐng)日: 2018-10-19
• 公開（公告）號(hào): CN209044301U
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

本公開提出一種曝光設(shè)備及具有該設(shè)備的光刻系統(tǒng)。曝光設(shè)備包括多個(gè)曝光機(jī)、多個(gè)XCDA氣體純化器、多根主輸送管路、支援輸送管路、多個(gè)控制閥組以及控制機(jī)構(gòu)。多個(gè)XCDA氣體純化器與多個(gè)曝光機(jī)一一對(duì)應(yīng)。多根主輸送管路分別連通于各對(duì)曝光機(jī)和XCDA氣體純化器之間。支援輸送管路分別連通于多根主輸送管路，支援輸送管路具有多根分支管路，并通過多根分支管路分別連通于多根主輸送管路。多個(gè)控制閥組分別設(shè)于多根主輸送管路，控制閥組被配置為可調(diào)節(jié)地連通主輸送管路與分支管路。控制機(jī)構(gòu)分別連接于多個(gè)控制閥組，控制機(jī)構(gòu)被配置為在任意XCDA氣體純化器故障或維護(hù)時(shí)，調(diào)節(jié)控制閥組，使正常工作的XCDA氣體純化器提供供氣支援。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及半導(dǎo)體光刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光設(shè)備及具有該設(shè)備的光刻系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有光刻系統(tǒng)的曝光設(shè)備通常包括曝光機(jī)和XCDA氣體純化器，曝光機(jī)與XCDA氣體純化器相連通，以使XCDA氣體純化器通過管路向曝光機(jī)輸送XCDA氣體(Extreme Clean DryAir，再純化CDA，即經(jīng)再純化處理后的潔凈干燥空氣)。

然而，現(xiàn)有曝光設(shè)備的XCDA氣體純化器如遇故障或許檢修維護(hù)而停止工作時(shí)，其所連通的曝光機(jī)則無法工作，導(dǎo)致曝光器件的耗損，降低XCDA氣體供應(yīng)和曝光環(huán)境的穩(wěn)定度。

實(shí)用新型內(nèi)容

本公開的一個(gè)主要目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的至少一種缺陷，提供一種穩(wěn)定性較高的曝光設(shè)備。

本公開的另一個(gè)主要目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的至少一種缺陷，提供一種具有上述曝光設(shè)備的光刻系統(tǒng)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本公開采用如下技術(shù)方案：

根據(jù)本公開的一個(gè)方面，提供一種曝光設(shè)備。其中，所述曝光設(shè)備包括多個(gè)曝光機(jī)、多個(gè)XCDA氣體純化器、多根主輸送管路、支援輸送管路、多個(gè)控制閥組以及控制機(jī)構(gòu)。多個(gè)所述XCDA氣體純化器與多個(gè)所述曝光機(jī)一一對(duì)應(yīng)。多根所述主輸送管路分別連通于各對(duì)所述曝光機(jī)和所述XCDA氣體純化器之間。所述支援輸送管路具有多根分支管路，并通過多根所述分支管路分別連通于多根所述主輸送管路。多個(gè)所述控制閥組分別設(shè)于多根所述主輸送管路，所述控制閥組被配置為可調(diào)節(jié)地連通所述主輸送管路與所述分支管路。所述控制機(jī)構(gòu)分別連接于多個(gè)所述控制閥組，所述控制機(jī)構(gòu)被配置為在任意所述XCDA氣體純化器故障或維護(hù)時(shí)，調(diào)節(jié)所述控制閥組，使正常工作的所述XCDA氣體純化器提供供氣支援。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述支援輸送管路的管徑大于所述主輸送管路的管徑。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述支援輸送管路的管徑為所述主輸送管路的管徑的1.2倍～1.5倍。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述支援輸送管路的管徑為所述主輸送管路的管徑的4/3倍。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述主輸送管路的管徑為0.6英尺～0.9英尺，所述支援輸送管路的管徑為0.8英尺～1.2英尺。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述主輸送管路的管徑為0.75英尺，所述支援輸送管路的管徑為1英尺。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述XCDA氣體純化器的最大輸出壓強(qiáng)為120磅每平方英寸。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述主輸送管路的材質(zhì)為304及以上等級(jí)的不銹鋼。

根據(jù)本公開的其中一個(gè)實(shí)施方式，所述控制閥組至少包括調(diào)壓閥件。

根據(jù)本公開的另一個(gè)方面，提供一種光刻系統(tǒng)。其中，所述光刻系統(tǒng)包括本公開提出的并在上述實(shí)施方式中所述的曝光設(shè)備。

由上述技術(shù)方案可知，本公開提出的曝光設(shè)備及具有該設(shè)備的光刻系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)和積極效果在于：