[實用新型]曝光設備及具有該設備的光刻系統有效
| 申請號： | 201821698715.9 | 申請日： | 2018-10-19 |
| 公開（公告）號： | CN209044301U | 公開（公告）日： | 2019-06-28 |
| 發明（設計）人： | 不公告發明人 | 申請（專利權）人： | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律智知識產權代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁禮君;闞梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 主輸送管路 氣體純化器 控制閥組 連通 分支管路 曝光設備 輸送管路 曝光機 支援 光刻系統 可調節 配置 供氣 維護 | ||
1.一種曝光設備，其特征在于，所述曝光設備包括：
多個曝光機；
多個XCDA氣體純化器，與多個所述曝光機一一對應；
多根主輸送管路，分別連通于各對所述曝光機和所述XCDA氣體純化器之間；
支援輸送管路，具有多根分支管路，并通過多根所述分支管路分別連通于多根所述主輸送管路；
多個控制閥組，分別設于多根所述主輸送管路，所述控制閥組被配置為可調節地連通所述主輸送管路與所述分支管路；以及
控制機構，分別連接于多個所述控制閥組，所述控制機構被配置為在任意所述XCDA氣體純化器故障或維護時調節所述控制閥組，使正常工作的所述XCDA氣體純化器提供供氣支援。
2.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述支援輸送管路的管徑大于所述主輸送管路的管徑。
3.根據權利要求2所述的曝光設備，其特征在于，所述支援輸送管路的管徑為所述主輸送管路的管徑的1.2倍～1.5倍。
4.根據權利要求3所述的曝光設備，其特征在于，所述支援輸送管路的管徑為所述主輸送管路的管徑的4/3倍。
5.根據權利要求2所述的曝光設備，其特征在于，所述主輸送管路的管徑為0.6英尺～0.9英尺，所述支援輸送管路的管徑為0.8英尺～1.2英尺。
6.根據權利要求5所述的曝光設備，其特征在于，所述主輸送管路的管徑為0.75英尺，所述支援輸送管路的管徑為1英尺。
7.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述XCDA氣體純化器的最大輸出壓強為120磅每平方英寸。
8.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述主輸送管路的材質為304及以上等級的不銹鋼。
9.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述控制閥組至少包括調壓閥件。
10.一種光刻系統，其特征在于，所述光刻系統包括權利要求1～9任一項所述的曝光設備。
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