[實(shí)用新型]一種晶圓的清洗設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821691229.4
• 申請(qǐng)日: 2018-10-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN209071282U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-07-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳琦南
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

1.一種晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，包括：第一供液管路、第一控制閥門(mén)、第二供液管路、第二控制閥門(mén)、混液管路、混液槽以及液體pH傳感器；所述第一供液管路和第二供液管路連通于所述混液管路，所述第一供液管路設(shè)置有所述第一控制閥門(mén)，所述第二供液管路設(shè)置有所述第二控制閥門(mén)，所述混液管路連通于所述混液槽的入液口，所述混液槽的出液口連接晶圓沖洗管道，并設(shè)置有所述液體pH傳感器。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，所述第一供液管路用于導(dǎo)流去離子水，并通過(guò)所述第一控制閥門(mén)用于控制所述去離子水的流量在預(yù)設(shè)的第一時(shí)間段內(nèi)從預(yù)設(shè)的第一流量提升至預(yù)設(shè)的第二流量。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，所述第二供液管路用于導(dǎo)流顯影液，并通過(guò)所述第二控制閥門(mén)用于控制所述顯影液的流量在預(yù)設(shè)的第一時(shí)間段內(nèi)從預(yù)設(shè)的第二流量降低至預(yù)設(shè)的第一流量。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，所述混液管路將所述第一供液管路的去離子水和所述第二供液管路的顯影液輸送到所述混液槽。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，所述混液槽用于混合所述去離子水和所述顯影液，將混合后的液體通過(guò)晶圓清洗管道清洗所述晶圓。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，所述pH傳感器檢測(cè)所述混液槽的出液口液體的pH值，并根據(jù)所檢測(cè)到的pH值控制所述第一控制閥門(mén)和所述第二控制閥門(mén)，使所述混液槽的出液口液體的pH值從13.2按照預(yù)設(shè)降低速率降低至7。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，所述第一控制閥門(mén)和所述第二控制閥門(mén)的流量控制范圍為0ml/min至3000ml/min。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓的清洗設(shè)備，其特征在于，所述混液槽的容量為1ml至1000ml。