[實用新型]一種多晶硅爐盤干式清洗機

有效

• 申請號: 201821673019.2
• 申請日: 2018-10-10
• 公開（公告）號: CN209303365U
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發明（設計）人: 李毅光;趙禹涵
• 申請（專利權）人: 北京德高潔清潔設備有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種多晶硅爐盤干式清洗機，包括干冰機組，與干冰機組相連設有干冰供料系統、防爆除塵系統、防爆電控系統，構成一個供冰組合體，此組合體與防爆清洗系統管道相連；所述防爆清洗系統是在外罩內設有清洗裝置，所述清洗裝置，是在一支架上設有旋轉伺服機構，伺服機構下設有直線模塊，直線模塊下設有清洗機頭，清洗機頭下設有噴頭和噴嘴，噴頭上連接有噴頭升降氣缸。本實用新型創造性地將干冰清洗應用于多晶硅爐盤，它安全高效、干凈快捷，且不會產生二次污染。將干冰機組、干冰供料系統、防爆除塵系統、防爆電控系統進行進一步整合成組合體，放置在可獨立移動的平板車上，使用方便靈活。

技術領域

本實用新型涉及一種多晶硅爐盤干式清洗機，用于對多晶硅還原爐盤面及電極的清理。屬于機械設備領域。

背景技術

多晶硅還原爐在生成多晶硅棒的過程中，會在電極和爐盤上逐漸形成堅硬的垢層。它們的存在會導致絕緣等級降低甚至破壞、反射面反射效率降低等問題，必須及時清理。目前主要靠人工手動清理，由于作業時爐盤會有各種有毒有害氣體溢出，給清理人員帶來健康和安全風險。同時由于生產車間防爆等級很高，為消除隱患，一般電動工具很難排上用場，因此堅硬的垢層很難找到快速、有效的方法清理，清理時間至少都在2-3小時以上，而且清理并不徹底，時間長了甚至會導致絕緣破壞，危及生產安全；清理后的粉塵又會污染十萬級凈化車間。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本實用新型提供一種多晶硅爐盤干式清洗機，它安全高效、干凈快捷，且不會產生二次污染。

為了達到上述目的，本實用新型的技術方案是，一種多晶硅爐盤干式清洗機，包括干冰機組，其特征是：與干冰機組相連設有干冰供料系統、防爆除塵系統、防爆電控系統，構成一個供冰組合體，此組合體與防爆清洗系統管道相連；所述防爆清洗系統是在外罩內設有清洗裝置，所述清洗裝置，是在一支架上設有旋轉伺服機構，伺服機構下設有直線模塊，直線模塊下設有清洗機頭，清洗機頭下設有噴頭和噴嘴，噴頭上連接有噴頭升降氣缸。

所述供冰組合體放置在可獨立移動的平板車上。

所述的清洗裝置設有1-4個清洗機頭、1-8個噴嘴。

所述的噴嘴包括直線噴嘴和彎頭噴嘴，所述的彎頭噴嘴為＞0-90°。

本實用新型創造性地將干冰清洗應用于多晶硅爐盤，它安全高效、干凈快捷，且不會產生二次污染。將干冰機組、干冰供料系統、防爆除塵系統、防爆電控系統進行進一步整合成組合體，放置在可獨立移動的平板車上，使用方便靈活。

附圖說明

圖1為本實用新型主視示意圖。

圖2為本實用新型俯視示意圖。

圖3為本實用新型清洗裝置示意圖。

圖4為本實用新型清洗機頭立體示意圖。

圖5為本實用新型清洗機頭示意圖。

圖中，1干冰機組，2干冰供料系統，3防爆除塵系統，4防爆電控系統，5防爆清洗系統，6清洗裝置、61支架、62旋轉伺服機構，63直線模塊、64清洗機頭，65、噴頭升降氣缸、66噴嘴，7平板車。

具體實施方式

以下結合附圖和實施例，對本實用新型進一步說明。

如圖1至圖5所示，本實用新型公開了一種多晶硅爐盤干式清洗機，包括干冰機組1，與干冰機組相連設有干冰供料系統2、防爆除塵系統3、防爆電控系統4，構成一個供冰組合體，此組合體與防爆清洗系統5管道相連；所述防爆清洗系統是在外罩內設有清洗裝置6，所述清洗裝置，是在一支架61上設有旋轉伺服機構62，伺服機構下設有直線模塊63，直線模塊下設有清洗機頭64，清洗機頭下設有噴頭和噴嘴66，噴頭上連接有噴頭升降氣缸65。