[實用新型]制程處理設備

有效

• 申請號: 201821670007.4
• 申請日: 2018-10-15
• 公開（公告）號: CN208903075U
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發明（設計）人: 陳昶睿
• 申請（專利權）人: 太禓有限公司
• 主分類號: G03F7/36
• 分類號: G03F7/36
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨;李林

本實用新型提供一種制程處理設備包括制程單元，用以對基板進行顯影、蝕刻或去膜制程，制程單元包括二流體霧化裝置，二流體霧化裝置包括液體幕簾出口，二流體霧化裝置用以供氣體與液體混合霧化后形成霧化液體流，并由液體幕簾出口噴灑出霧化液體至基板。

技術領域

本實用新型涉及以霧化液體流進行顯影、蝕刻或去膜制程的一種制程處理設備。

背景技術

在制程中往往以多組噴嘴對基板進行噴灑藥液，以對基板進行相關制程，然而，雖可利用移動基板或讓噴嘴以角度方式去噴灑。但受限于多組噴嘴設置及角度局限，多組噴嘴噴灑的藥液于部分有交集，部分未有交集，導致部分藥液重疊，部分藥液未重疊，造成無法均勻噴灑藥液，使得藥液浸潰不均，而出現制程不良的問題產生。

因此，如何改良并能提供一種制程處理設備，來避免上述所遭遇到的問題，為目前業界的重要課題。

實用新型內容

本實用新型提供一種制程處理設備，可用于顯影、蝕刻或去膜等制程，制程處理設備中的二流體霧化裝置，用以供氣體與液體混合霧化后形成霧化液體流，并由液體幕簾出口噴灑出霧化液體至該基板。

本實用新型的一種制程處理設備包括一制程單元，用以對一基板進行顯影、蝕刻或去膜制程，制程單元包括一二流體霧化裝置，二流體霧化裝置包括一液體幕簾出口，二流體霧化裝置用以供一氣體與一液體混合霧化后形成一霧化液體流，并由液體幕簾出口噴灑出霧化液體流至基板。

在本實用新型的一實施例中，上述的二流體霧化裝置包括一第一殼體、一第二殼體、一中隔板以及一腔體混合區，第二殼體組裝于第一殼體，第一殼體用以導入氣體，第二殼體用以流入液體，中隔板設置于第一殼體與第二殼體之間，腔體混合區鄰接于中隔板，腔體混合區連通于液體幕簾出口，氣體與液體于腔體混合區混合霧化后形成霧化液體流。

在本實用新型的一實施例中，上述之中隔板與第一殼體之間界定出一氣體容置區，氣體容置區連通于腔體混合區。

在本實用新型的一實施例中，上述之中隔板與第二殼體之間界定出一液體容置區，液體容置區連通于腔體混合區。

在本實用新型的一實施例中，上述的基板為一電路板、一玻璃或一半導體元件。

綜上所述，在本實用新型的制程處理設備中，二流體霧化裝置不同于現有技術的多組噴嘴，二流體霧化裝置的液體幕簾出口為沿著一方向形成的孔洞，可提供均勻的霧化液體流，進一步可憑借移動二流體霧化裝置來配合使用，而不會受限二流體霧化裝置與基板位置的影響。

此外，二流體霧化裝置氣體由第一殼體的進氣孔導入至氣體容置區，液體由第二殼體的進水孔流入至液體容置區，接著氣體由氣體容置區導入至腔體混合區，液體由液體容置區流入至腔體混合區，使得氣體與液體于腔體混合區混合霧化后形成一霧化液體流，并由液體幕簾出口噴灑出霧化液體流至基板，此方式可用于蝕刻(Etching)制程、顯影(development)制程或去膜(stripping)制程等制程。

為讓本實用新型能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附圖式作詳細說明如下。

附圖說明

圖1為本實用新型制程處理設備的示意圖。

圖2為圖1的二流體霧化裝置的示意圖。

圖3為圖1的二流體霧化水刀裝置一視角的示意圖。

圖4為圖1的二流體霧化水刀裝置另一視角的示意圖。

圖5為第一殼體的示意圖。

圖6為第二殼體的示意圖。

圖7為中隔板的示意圖。