[實用新型]制程處理設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821670007.4
• 申請日: 2018-10-15
• 公開（公告）號: CN208903075U
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發(fā)明（設計）人: 陳昶睿
• 申請（專利權）人: 太禓有限公司
• 主分類號: G03F7/36
• 分類號: G03F7/36
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 孫皓晨;李林

1.一種制程處理設備，其特征是包括：

一制程單元，用以對一基板進行顯影、蝕刻或去膜制程，該制程單元包括一二流體霧化裝置，該二流體霧化裝置包括一液體幕簾出口，該二流體霧化裝置用以供一氣體與一液體混合霧化后形成一霧化液體流，并由該液體幕簾出口噴灑出該霧化液體流至該基板。

2.根據權利要求1所述的制程處理設備，其特征在于：該二流體霧化裝置包括一第一殼體、一第二殼體、一中隔板以及一腔體混合區(qū)，該第二殼體組裝于該第一殼體，該第一殼體用以導入該氣體，該第二殼體用以流入該液體，該中隔板設置于該第一殼體與該第二殼體之間，該腔體混合區(qū)鄰接于該中隔板，該腔體混合區(qū)連通于該液體幕簾出口，該氣體與該液體于該腔體混合區(qū)混合霧化后形成該霧化液體流。

3.根據權利要求2所述的制程處理設備，其特征在于：該中隔板與該第一殼體之間界定出一氣體容置區(qū)，該氣體容置區(qū)連通于該腔體混合區(qū)。

4.根據權利要求2所述的制程處理設備，其特征在于：該中隔板與該第二殼體之間界定出一液體容置區(qū)，該液體容置區(qū)連通于該腔體混合區(qū)。

5.根據權利要求1所述的制程處理設備，其特征在于：該基板為一電路板、一玻璃或一半導體元件。