[實用新型]一種離子注入機的硅片放置驅動裝置

有效

• 申請號: 201821654703.6
• 申請日: 2018-10-12
• 公開（公告）號: CN208796953U
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: 丁桃寶;周琛懌
• 申請（專利權）人: 蘇州晉宇達實業股份有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京匯捷知識產權代理事務所(普通合伙) 11531
• 代理人: 李宏偉

本實用新型公開了一種離子注入機的硅片放置驅動裝置，包括機架，機架上豎直滑動安裝有升降臺，升降臺上固定有固定端蓋，該固定端蓋上設置有離子注入窗口和真空連接頭，升降臺上偏擺安裝有活動盤體，升降臺上安裝有偏擺動力裝置，活動盤體內轉動安裝有公轉盤，該公轉盤由固定于活動盤體上的公轉動力裝置驅動，公轉盤上圓周均布有若干個自轉盤架，每個自轉盤架均轉動安裝于公轉盤上且由自轉動力裝置驅動，自轉盤架上設置有放置區域，該自轉盤架上設置有用于卡緊硅片邊緣的卡緊裝置。該硅片放置驅動裝置可以使離子束不移動而硅片旋轉并移動，這樣結構更加簡單，并且每次離子注入的硅片量更大，效率更高。

技術領域

本實用新型涉及一種硅片放置驅動裝置，用于離子注入機中使用。

背景技術

離子注入機是半導體生產過程中所使用的一種設備，其原理是通過離子源產生多種離子，然后通過磁鐵分析儀對多種離子進行篩選，最終有用的目標離子形成離子束，離子束經過加速磁場的加速作用后可以直接注入到硅片內，而目前一般的離子注入機在硅片注入時是通過離子束的移動來改變離子注入的位置，并且離子注入是分階段的注入，受離子束的移動距離的影響，每次注入的硅片量都比較少，因而整體的效率比較低。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：提供一種離子注入機的硅片放置驅動裝置，該硅片放置驅動裝置可以使離子束不移動而硅片旋轉并移動，這樣結構更加簡單，并且每次離子注入的硅片量更大，效率更高。

為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：一種離子注入機的硅片放置驅動裝置，包括機架，所述機架上豎直滑動安裝有升降臺，該升降臺由豎直伺服電機驅動豎直升降，所述升降臺上固定有豎直設置的固定端蓋，該固定端蓋上設置有豎直延伸的離子注入窗口和用于抽真空系統連通的真空連接頭，所述升降臺上偏擺安裝有活動盤體，所述升降臺上安裝有驅動活動盤體擺動的偏擺動力裝置，所述偏擺動力裝置驅動活動盤體在水平位置和豎直位置之間偏擺，活動盤體在豎直位置時與固定端蓋之間密封配合，所述活動盤體內轉動安裝有公轉盤，該公轉盤由固定于活動盤體上的公轉動力裝置驅動，所述公轉盤上圓周均布有若干個自轉盤架，每個自轉盤架均轉動安裝于公轉盤上且由自轉動力裝置驅動，所述自轉盤架上設置有用于放置硅片的放置區域，該自轉盤架上設置有用于卡緊硅片邊緣的卡緊裝置，所述離子注入窗口的長度和位置均與硅片的直徑適配。

作為一種優選的方案，所述升降臺上設置有豎直的導桿，所述升降臺通過導桿豎直滑動安裝于機架上，所述豎直伺服電機通過絲杠螺母機構驅動升降臺升降。

作為一種優選的方案，所述活動盤體的中心處轉動安裝有中心軸，該中心軸由公轉動力裝置驅動，所述公轉盤可拆卸固定于中心軸上，所述升降臺上設置有方便公轉動力裝置通過的通過孔。

作為一種優選的方案，所述中心軸的上端由上而下設置有螺紋軸段和多邊形軸段，所述公轉盤的中心設置有與多邊形軸段適配的多邊形孔，所述多邊形孔套裝于多邊形軸段，中心軸上的螺紋軸段上螺紋安裝有用于卡緊公轉盤的壓帽。

作為一種優選的方案，所述偏擺動力裝置為偏擺氣缸，所述偏擺氣缸的缸體鉸接在活動盤體的背部，所述升降臺上水平滑動安裝有滑塊，所述偏擺氣缸的活塞桿的端部鉸接于滑塊上，所述升降臺上設置有在活動盤體水平放倒時容納偏擺氣缸的容納凹槽。

作為一種優選的方案，所述卡緊裝置包括圓周均布于放置區域外周的至少三個卡緊塊，該卡緊塊水平彈性滑動安裝于自轉盤架上，所述卡緊塊上設置有向放置區域中心徑向延伸的傾斜端部，所述傾斜端部的底部與放置區域的底部之間具有與硅片厚度適配的間隙，所述傾斜端部的內邊緣靠近硅片的注入區域。

作為一種優選的方案，所述卡緊塊包括卡緊塊本體和設置于卡緊塊本體上的導向桿，所述導向桿的自由端水平貫穿自轉盤架且露出，所述導向桿的自由端上設置有螺紋段且安裝有限位螺母，所述卡緊塊本體與自轉盤架之間設置有壓縮彈簧。