[實(shí)用新型]一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821654703.6
• 申請日: 2018-10-12
• 公開（公告）號: CN208796953U
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 丁桃寶;周琛懌
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州晉宇達(dá)實(shí)業(yè)股份有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京匯捷知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11531
• 代理人: 李宏偉

1.一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，包括機(jī)架，其特征在于：所述機(jī)架上豎直滑動安裝有升降臺，該升降臺由豎直伺服電機(jī)驅(qū)動豎直升降，所述升降臺上固定有豎直設(shè)置的固定端蓋，該固定端蓋上設(shè)置有豎直延伸的離子注入窗口和用于抽真空系統(tǒng)連通的真空連接頭，所述升降臺上偏擺安裝有活動盤體，所述升降臺上安裝有驅(qū)動活動盤體擺動的偏擺動力裝置，所述偏擺動力裝置驅(qū)動活動盤體在水平位置和豎直位置之間偏擺，活動盤體在豎直位置時與固定端蓋之間密封配合，所述活動盤體內(nèi)轉(zhuǎn)動安裝有公轉(zhuǎn)盤，該公轉(zhuǎn)盤由固定于活動盤體上的公轉(zhuǎn)動力裝置驅(qū)動，所述公轉(zhuǎn)盤上圓周均布有若干個自轉(zhuǎn)盤架，每個自轉(zhuǎn)盤架均轉(zhuǎn)動安裝于公轉(zhuǎn)盤上且由自轉(zhuǎn)動力裝置驅(qū)動，所述自轉(zhuǎn)盤架上設(shè)置有用于放置硅片的放置區(qū)域，該自轉(zhuǎn)盤架上設(shè)置有用于卡緊硅片邊緣的卡緊裝置，所述離子注入窗口的長度和位置均與硅片的直徑適配。

2.如權(quán)利要求1所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述升降臺上設(shè)置有豎直的導(dǎo)桿，所述升降臺通過導(dǎo)桿豎直滑動安裝于機(jī)架上，所述豎直伺服電機(jī)通過絲杠螺母機(jī)構(gòu)驅(qū)動升降臺升降。

3.如權(quán)利要求2所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述活動盤體的中心處轉(zhuǎn)動安裝有中心軸，該中心軸由公轉(zhuǎn)動力裝置驅(qū)動，所述公轉(zhuǎn)盤可拆卸固定于中心軸上，所述升降臺上設(shè)置有方便公轉(zhuǎn)動力裝置通過的通過孔。

4.如權(quán)利要求3所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述中心軸的上端由上而下設(shè)置有螺紋軸段和多邊形軸段，所述公轉(zhuǎn)盤的中心設(shè)置有與多邊形軸段適配的多邊形孔，所述多邊形孔套裝于多邊形軸段，中心軸上的螺紋軸段上螺紋安裝有用于卡緊公轉(zhuǎn)盤的壓帽。

5.如權(quán)利要求4所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述偏擺動力裝置為偏擺氣缸，所述偏擺氣缸的缸體鉸接在活動盤體的背部，所述升降臺上水平滑動安裝有滑塊，所述偏擺氣缸的活塞桿的端部鉸接于滑塊上，所述升降臺上設(shè)置有在活動盤體水平放倒時容納偏擺氣缸的容納凹槽。

6.如權(quán)利要求5所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述卡緊裝置包括圓周均布于放置區(qū)域外周的至少三個卡緊塊，該卡緊塊水平彈性滑動安裝于自轉(zhuǎn)盤架上，所述卡緊塊上設(shè)置有向放置區(qū)域中心徑向延伸的傾斜端部，所述傾斜端部的底部與放置區(qū)域的底部之間具有與硅片厚度適配的間隙，所述傾斜端部的內(nèi)邊緣靠近硅片的注入?yún)^(qū)域。

7.如權(quán)利要求6所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述卡緊塊包括卡緊塊本體和設(shè)置于卡緊塊本體上的導(dǎo)向桿，所述導(dǎo)向桿的自由端水平貫穿自轉(zhuǎn)盤架且露出，所述導(dǎo)向桿的自由端上設(shè)置有螺紋段且安裝有限位螺母，所述卡緊塊本體與自轉(zhuǎn)盤架之間設(shè)置有壓縮彈簧。

8.如權(quán)利要求7所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述卡緊塊本體的傾斜端部的邊角均為圓弧倒角，且傾斜端部的外部邊緣均設(shè)置有耐磨塑料層。

9.如權(quán)利要求8所述的一種離子注入機(jī)的硅片放置驅(qū)動裝置，其特征在于：所述活動盤體上位自轉(zhuǎn)盤架之間的區(qū)域設(shè)置有徑向延伸的強(qiáng)度檢測條孔，該強(qiáng)度檢測條孔與注入窗口的長度適配，所述活動盤體的背面在強(qiáng)度檢測條孔處設(shè)置有用于檢測離子束入射強(qiáng)度的法拉第杯。