[實用新型]一種輻射制冷薄膜制造設(shè)備的流延定型系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821649753.5 | 申請日： | 2018-10-11 |
| 公開（公告）號： | CN209533972U | 公開（公告）日： | 2019-10-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 徐紹禹;陳志雄;鐘松;梁文東;羅亮;其他發(fā)明人請求不公開姓名 | 申請（專利權(quán)）人： | 寧波瑞凌輻射制冷科技有限公司 |
| 主分類號： | B29C41/26 | 分類號： | B29C41/26;B29C41/52;B29L7/00 |
| 代理公司： | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 44384 | 代理人： | 梁炎芳;謝亮 |
| 地址： | 315500 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 流延輥 輻射制冷 模頭 薄膜 薄膜制造設(shè)備 本實用新型 定型系統(tǒng) 擠出機 成膜 流延 低溫定型 獨立控制 高溫定型 厚度均勻 第一端 相切 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種輻射制冷薄膜制造設(shè)備的流延定型系統(tǒng)，用于生產(chǎn)厚度均勻的輻射制冷薄膜，其特征在于：包括用于擠出高溫熔體的擠出機、用于初始定型的模頭、用于高溫定型且控制溫度為50～200℃的第一流延輥、用于低溫定型且控制溫度為10～35℃的第二流延輥、以及用于低溫定型且控制溫度為10～35℃的第三流延輥，所述模頭位于擠出機左側(cè)，所述第一流延輥位于模頭左下側(cè)，所述第二流延輥位于第一流延輥左側(cè)，所述第三流延輥位于第二流延輥左側(cè)；所述輻射制冷薄膜第一端位于模頭下方，所述輻射制冷薄膜第二端從右至左依次與第一流延輥底部、第二流延輥頂部以及第三流延輥底部相切；其中，所述模頭為平面模頭。
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