[實用新型]灰階掩膜板有效
| 申請號: | 201821645011.5 | 申請日: | 2018-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN208689359U | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發明(設計)人: | 萬志龍;楊鵬;莊崇營;譚曉彬;柳發霖;于春琦;李林 | 申請(專利權)人: | 信利半導體有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/32 | 分類號: | G03F1/32 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 唐維虎 |
| 地址: | 516600 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 灰階圖案 灰階 透光圖案 遮光圖案 掩膜板 幾何中心點 半曝光區 邊緣重合 光刻膠 多行多列 非透明區 距離相等 均勻作用 曝光顯影 相鄰兩列 相鄰兩行 控制光 透明區 光能 顯影 掩膜 制程 曝光 申請 | ||
1.一種灰階掩膜板,其特征在于,包括透光區、非透光區以及灰階區,所述灰階區包括呈多行多列排列的灰階圖案,每一行灰階圖案包括間隔設置的透光圖案和遮光圖案;
任意相鄰兩行的灰階圖案中,其中一行灰階圖案的遮光圖案與另一行灰階圖案的透光圖案至少部分邊緣重合;
任意相鄰兩列的灰階圖案中,其中一列灰階圖案的遮光圖案與另一列灰階圖案的透光圖案至少部分邊緣重合;
所述透光圖案的幾何中心點到相鄰的遮光圖案邊緣的距離,與所述遮光圖案的幾何中心點到相鄰的透光圖案邊緣的距離相等。
2.如權利要求1所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案與所述遮光圖案相同。
3.如權利要求2所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案和所述遮光圖案為正多邊形。
4.如權利要求3所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案和所述遮光圖案為正三角形;
每一行灰階圖案中相鄰的透光圖案與該相鄰的透光圖案之間的遮光圖案邊緣重合;
每一列灰階圖案中的透光圖案與遮光圖案相互間隔設置,所述透光圖案與相鄰的遮光圖案邊緣重合。
5.如權利要求3所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案和所述遮光圖案為正三角形;
每一行灰階圖案中相鄰的透光圖案與該相鄰的透光圖案之間的遮光圖案邊緣重合;
任意相鄰兩行的灰階圖案中,其中一行灰階圖案中的遮光圖案的邊緣與另一行灰階圖案中的兩個透光圖案的邊緣重合,其中與一個透光圖案邊緣重合部分的長度不小于邊緣長度與所述透光圖案的幾何中心點到各邊緣距離一半的差值,與另一個透光圖案邊緣重合部分的長度不大于所述透光圖案的幾何中心點到各邊緣距離一半。
6.如權利要求3所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案和所述遮光圖案為正方形;
每一行灰階圖案中相鄰的透光圖案與該相鄰的透光圖案之間的遮光圖案邊緣重合;
每一列灰階圖案中的透光圖案與遮光圖案相互間隔設置,相鄰的透光圖案與該相鄰的透光圖案之間的遮光圖案邊緣重合。
7.如權利要求3所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案和所述遮光圖案為正方形;
任意相鄰兩行的灰階圖案中,其中一行灰階圖案中的遮光圖案的邊緣與另一行灰階圖案中的一個對應的透光圖案的邊緣部分重合,與該對應的透光圖案邊緣重合部分的長度不小于正方形邊長的四分之三。
8.如權利要求3所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案和所述遮光圖案為正方形;
任意相鄰兩列的灰階圖案中,其中一列灰階圖案中的遮光圖案的邊緣與另一列灰階圖案中的一個對應的透光圖案的邊緣部分重合,與該對應的透光圖案邊緣重合部分的長度不小于正方形邊長的四分之三。
9.如權利要求3所述的灰階掩膜板,其特征在于,所述透光圖案和所述遮光圖案為正五邊形或正六邊形;
所述透光圖案與相鄰的遮光圖案邊緣重合。
10.如權利要求1-9中任意一項所述的灰階掩膜板,其特征在于:
間隔行和/或間隔列所對應的灰階圖案相同。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





