[實用新型]脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置及系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821635929.1
• 申請日: 2018-10-09
• 公開（公告）號: CN209144243U
• 公開（公告）日: 2019-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 朱新華;李炳坤;張曉軍;陳志強;方安安;姜鷺;潘恒;王巖;王峻嶺
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市矩陣多元科技有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28
• 代理公司: 深圳市華優(yōu)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44319
• 代理人: 余薇

本實用新型涉及薄膜制造技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置及系統(tǒng)。所述脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置包括靶材轉(zhuǎn)盤、至少一個靶座、靶座自轉(zhuǎn)齒輪、靶座自轉(zhuǎn)驅(qū)動齒輪、靶材擋板、靶材擋板單向軸承、靶材擋板單向軸承座、公轉(zhuǎn)主軸、靶材轉(zhuǎn)盤自轉(zhuǎn)齒輪、靶材轉(zhuǎn)盤單向軸承和驅(qū)動機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動所述公轉(zhuǎn)主軸轉(zhuǎn)動以帶動所述靶材轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動、驅(qū)動所述公轉(zhuǎn)主軸轉(zhuǎn)動帶動靶材擋板單向轉(zhuǎn)動以使所述靶材轉(zhuǎn)盤上的靶座可正對所述靶材擋板的靶材孔、以及驅(qū)動所述靶座自轉(zhuǎn)驅(qū)動齒輪帶動所述靶座自轉(zhuǎn)齒輪轉(zhuǎn)動以使所述靶座自轉(zhuǎn)。通過控制旋轉(zhuǎn)靶材擋板就方便快捷地實現(xiàn)了靶材的快速切換，提升了薄膜制造的工作效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及薄膜制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置及系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有脈沖激光沉積系統(tǒng)(Pulsed Laser Deposition，PLD)在制造薄膜時，需要人工手動安裝和更換多種特定靶材擋板，以避免薄膜被非鍍膜靶材污染，但多種特定靶材擋板會占用真空腔的內(nèi)部空間，且人工手動更換操作繁瑣耗時，影響了薄膜制造的工作效率。

實用新型內(nèi)容

鑒于此，本實用新型提供一種脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置及系統(tǒng)，解決現(xiàn)有脈沖激光沉積系統(tǒng)鍍膜時人工手動更換靶材擋板操作繁瑣耗時而影響薄膜制造的工作效率的技術(shù)問題。

根據(jù)本實用新型的實施例，提供一種脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置，包括靶材轉(zhuǎn)盤、至少一個靶座、靶座自轉(zhuǎn)齒輪、靶座自轉(zhuǎn)驅(qū)動齒輪、靶材擋板、靶材擋板單向軸承、靶材擋板單向軸承座、公轉(zhuǎn)主軸、靶材轉(zhuǎn)盤自轉(zhuǎn)齒輪、靶材轉(zhuǎn)盤單向軸承和驅(qū)動機構(gòu)，所述靶座設(shè)置在所述靶材轉(zhuǎn)盤第一側(cè)面，所述靶座自轉(zhuǎn)齒輪設(shè)置在所述靶材轉(zhuǎn)盤第二側(cè)面與所述靶座的對應(yīng)位置，所述靶材擋板設(shè)置有與所述靶座對應(yīng)的靶材孔，所述靶材擋板安裝在所述靶材擋板單向軸承座上并通過所述靶材擋板單向軸承安裝在所述公轉(zhuǎn)主軸上，所述靶座自轉(zhuǎn)齒輪與所述靶座自轉(zhuǎn)驅(qū)動齒輪嚙合，所述靶材轉(zhuǎn)盤通過所述靶材轉(zhuǎn)盤單向軸承安裝在所述公轉(zhuǎn)主軸上且通過所述靶材轉(zhuǎn)盤自轉(zhuǎn)齒輪驅(qū)動自轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動所述公轉(zhuǎn)主軸轉(zhuǎn)動以帶動所述靶材轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動、驅(qū)動所述公轉(zhuǎn)主軸轉(zhuǎn)動帶動靶材擋板單向轉(zhuǎn)動以使所述靶材轉(zhuǎn)盤上的靶座可正對所述靶材擋板的靶材孔、以及驅(qū)動所述靶座自轉(zhuǎn)驅(qū)動齒輪帶動所述靶座自轉(zhuǎn)齒輪轉(zhuǎn)動以使所述靶座自轉(zhuǎn)。

優(yōu)選的，所述驅(qū)動機構(gòu)包括第一馬達(dá)、第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部、第二馬達(dá)和第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部，所述第一馬達(dá)用于驅(qū)動第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部帶動所述公轉(zhuǎn)主軸轉(zhuǎn)動，所述第二馬達(dá)用于驅(qū)動所述第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部帶動所述靶座自轉(zhuǎn)驅(qū)動齒輪轉(zhuǎn)動。

優(yōu)選的，所述靶座均勻設(shè)置在所述靶材轉(zhuǎn)盤第一側(cè)面同一圓周上。

優(yōu)選的，所述靶材孔和所述靶座半徑相同。

優(yōu)選的，所述靶材孔和所述靶座的中心到所述公轉(zhuǎn)主軸的距離相同。

優(yōu)選的，所述靶材擋板單向軸承配置為當(dāng)所述公轉(zhuǎn)主軸向第一方向轉(zhuǎn)動時自鎖，以帶動所述靶材擋板向第二方向轉(zhuǎn)動。

優(yōu)選的，所述第一方向、第二方向分別為順時針方向、逆時針方向。

優(yōu)選的，所述驅(qū)動機構(gòu)用于驅(qū)動所述公轉(zhuǎn)主軸逆時針方向轉(zhuǎn)動。

優(yōu)選的，所述靶材擋板單向軸承配置為當(dāng)所述公轉(zhuǎn)主軸向順時針方向轉(zhuǎn)動時自鎖。

根據(jù)本實用新型的另一個實施例，還提供一種脈沖激光沉積系統(tǒng)，包括激光發(fā)射裝置、真空腔和上述的脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置，所述激光發(fā)射裝置發(fā)射的激光脈沖穿過所述真空腔的激光孔和所述脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶材裝載裝置的靶材擋板的靶材孔而直射所述靶座內(nèi)的靶材。