[實(shí)用新型]一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821632085.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-10-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN209280512U | 公開(公告)日: | 2019-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李星輝;吳豪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué)深圳研究生院 |
| 主分類號(hào): | G01N15/04 | 分類號(hào): | G01N15/04 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 梁嘉琦 |
| 地址: | 518000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電離 顆粒物 測(cè)量模塊 質(zhì)量測(cè)量裝置 沉降 濾膜 測(cè)量 頻率測(cè)量裝置 質(zhì)量檢測(cè)裝置 本實(shí)用新型 高壓放電針 測(cè)量石英 電極參數(shù) 電離空氣 電離區(qū)域 石英晶片 數(shù)據(jù)基礎(chǔ) 諧振頻率 集塵極 帶電 附著 晶片 石英 | ||
1.一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于,包括:用于電離空氣的電離模塊和用于測(cè)量沉降顆粒物的質(zhì)量變化值的測(cè)量模塊;所述電離模塊包括電離區(qū)域和設(shè)置于電離區(qū)域中的高壓放電針;所述測(cè)量模塊包括帶電的石英晶片和用于測(cè)量石英晶片的諧振頻率的頻率測(cè)量裝置,所述石英晶片設(shè)置于電離區(qū)域下側(cè);還包括用于收集未被沉降顆粒物的濾膜和用于測(cè)量濾膜中顆粒物質(zhì)量的質(zhì)量檢測(cè)裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于:還包括靜電沉降流道,所述靜電沉降流道形成所述的電離區(qū)域;所述靜電沉降流道表面設(shè)置有微孔,所述高壓放電針通過微孔插入至所述靜電沉降流道內(nèi)部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于:還包括殼體,所述測(cè)量模塊設(shè)置于殼體上端,所述靜電沉降流道下端與殼體相連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于:所述石英晶片的表面設(shè)置有導(dǎo)電金屬片。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于:還包括晶片托盤,所述石英晶片設(shè)置于晶片托盤中。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于:所述晶片托盤的上側(cè)設(shè)有通孔,所述通孔的形狀與所述石英晶片的上表面的導(dǎo)電金屬片相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于:還包括用于將空氣吸入電離區(qū)域的空氣泵,所述空氣泵通過泵接口與濾膜相連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種顆粒物沉降質(zhì)量測(cè)量裝置,其特征在于:還包括用于提供電壓的供電探針,所述供電探針的導(dǎo)電金屬片相連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué)深圳研究生院,未經(jīng)清華大學(xué)深圳研究生院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821632085.5/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





