[實用新型]一種單晶爐用的對中調節裝置有效
| 申請號: | 201821628048.7 | 申請日: | 2018-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN209114036U | 公開(公告)日: | 2019-07-16 |
| 發明(設計)人: | 王維 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創真空技術有限公司 |
| 主分類號: | C30B29/06 | 分類號: | C30B29/06;C30B15/02 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 魏雪梅;麻雪梅 |
| 地址: | 100015 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 座板 調平 對中調節裝置 底板 單晶爐 焊接波紋管 縱向調節孔 部件設置 橫向通孔 板支撐 外邊沿 止擋部 本實用新型 底板縱向 內部構造 平面調節 相對設置 縱向調節 縱向位置 對中性 上端面 坩堝軸 上端 產率 搭接 單晶 軟軸 提拉 開口 支撐 | ||
本實用新型涉及單晶爐技術領域,公開了一種單晶爐用的對中調節裝置,包括底板;調平座板設置在底板的上方并與底板縱向相對設置并且間隔開,在調平座板的外邊沿構造有縱向調節孔;焊接波紋管;座板支撐設置在底板和調平座板之間并位于焊接波紋管的外側,調平座板的外邊沿搭接在座板支撐的上端面,在座板支撐的上端面的外側邊沿構造有止擋部,在止擋部的內部構造有開口朝向調平座板的外側面的橫向通孔;平面調節部件設置在橫向通孔內并能調節調平座板在水平面內的前、后、左以及右方向上的運動;以及縱向調節部件設置在縱向調節孔內并能調節調平座板的縱向位置。該對中調節裝置具有使得提拉頭、軟軸以及坩堝軸的對中性好和單晶的產率高的優點。
技術領域
本實用新型涉及單晶爐技術領域,特別是涉及一種單晶爐用的對中調節裝置。
背景技術
單晶爐是太陽能電池級單晶硅的主要制備設備。近年來,單晶爐規格朝著大直徑、大型化的方向發展,晶體的直徑逐漸從6英寸發展到12英寸。晶體的大型化發展已經成為了當前的主流趨勢。
單晶爐是直拉法晶體生長的原理的典型設備,隨著單晶爐直徑的變大,晶體的生長需要非常穩定的運動和對稱的熱場,所以,直拉生長法中單晶爐提拉頭、軟軸以及坩堝軸三者的旋轉中心重合與否對晶體的品質有著至關重要的作用,三者的對中程度是決定能否拉制出質量優和尺寸大的單晶硅的必要條件之一。其中,提拉頭位于該坩堝軸的上方,該提拉頭的下端連接軟軸,軟軸的下端帶有紫晶并能伸入到坩堝內并與坩堝內的多晶硅溶液相接觸,多晶硅與紫晶接觸后便會生出單晶,在單晶生長的過程中,提拉頭和軟軸均與坩堝相對反向旋轉,如果三者的旋轉中心的對中性不好,那么坩堝在旋轉的過程中,坩堝內的原料液的阻力便會將坩堝內的晶棒甩動起來,從而使晶棒發生傾斜,導致晶棒偏離熱場中心,使得晶棒發生扭曲變形或是導致晶體生長時發生位錯或是拉不出單晶。
另外,單晶爐溫度場呈梯度分布,并繞坩堝軸的中心對稱,如果三者旋轉中心對中不好,則會導致單晶受熱不均,晶棒上的某點隨晶棒進行旋轉的過程中所受的溫度就會一直發生變化,這就會對晶體的生長造成熱沖積,從而影響晶體的內在品質。
實用新型內容
(一)要解決的技術問題
本實用新型的目的是提供一種單晶爐用的對中調節裝置,以解決現有技術中由于提拉頭、軟軸以及坩堝軸三者在單晶拉制的過程中的旋轉中心對中性差,從而導致單晶受熱不均,晶棒上的某點隨晶棒進行旋轉的過程中所受的溫度就會一直發生變化,這就會對晶體的生長造成熱沖積,從而影響晶體的內在品質的技術問題。
(二)技術方案
為了解決上述技術問題,本實用新型提供一種單晶爐用的對中調節裝置,包括:底板;調平座板,設置在所述底板的上方并與所述底板縱向相對設置并且間隔開,在所述調平座板的外邊沿構造有縱向調節孔;焊接波紋管,設置在所述底板和所述調平座板之間;座板支撐,設置在所述底板和所述調平座板之間并位于所述焊接波紋管的外側,所述調平座板的外邊沿搭接在所述座板支撐的上端面,在所述座板支撐的上端面的外側邊沿構造有止擋部,在所述止擋部的內部構造有開口朝向所述調平座板的外側面的橫向通孔;平面調節部件,設置在所述橫向通孔內并能調節所述調平座板在水平面內的前、后、左以及右方向上的運動;以及縱向調節部件,設置在所述縱向調節孔內并能調節所述調平座板的縱向位置。
其中,在所述調平座板的中間區域構造有第一通孔,在所述底板的中間區域構造有第二通孔,所述焊接波紋管的上端嵌入所述第一通孔內,所述焊接波紋管的下端通過法蘭上的法蘭孔與所述第二通孔連接。
其中,在所述第二通孔內安裝有定位管,所述定位管位于所述焊接波紋管的正下方。
其中,在所述調平座板上構造有安裝孔,所述安裝孔位于所述縱向調節孔的內側。
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