[實用新型]一種研磨盤有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821625356.4 | 申請日： | 2018-09-30 |
| 公開（公告）號： | CN209350055U | 公開（公告）日： | 2019-09-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 賀勇;鄧有財;林旭明 | 申請（專利權(quán)）人： | 廈門三安光電有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/11 | 分類號： | B24B37/11 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 361100 福建省廈門市*** | 國省代碼： | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 研磨盤 研磨 本實用新型 環(huán)形表面 晶片研磨 拋光過程 拋光液 拋光 槽壁 晶片 可用 移除 配合 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種研磨盤，用于與拋光液配合進(jìn)行研磨或者拋光，其特征在于：所述研磨盤的環(huán)形表面上設(shè)研磨溝槽，所述溝槽的槽壁與溝槽的中心線的夾角是0~5°，所述的溝槽的形狀包括方形、U形或梯形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨盤，其特征在于：溝槽的中心線為豎直線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨盤，其特征在于：研磨盤材料包括銅盤、錫盤或鐵盤。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨盤，其特征在于：所述的方形溝槽深度是380~600um，溝槽寬度是0.8 ~1.1mm，溝槽的間距是1.6~2.2mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨盤，其特征在于：所述的U形溝槽深度是380~1000um，溝槽寬度是0.8 ~1.1mm，溝槽的間距是1.6~2.2mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨盤，其特征在于：所述的梯形溝槽深度是380~600um，梯形溝槽的下寬度是0.8~1.1mm，溝槽的間距是1.6~2.2mm，溝槽的槽壁與溝槽的中心線的夾角是0~5°。
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