[實用新型]一種用于定盤平坦度的測試裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821611735.8
• 申請日: 2018-09-30
• 公開（公告）號: CN208872267U
• 公開（公告）日: 2019-05-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王鳴;賀賢漢
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州中芯晶圓半導(dǎo)體股份有限公司;上海申和熱磁電子有限公司
• 主分類號: G01B11/30
• 分類號: G01B11/30
• 代理公司: 上海順華專利代理有限責(zé)任公司 31203
• 代理人: 顧蘭芳

本實用新型提供一種用于定盤平坦度的測試裝置，包括一底座，底座上方連接一可伸縮的支架，支架與絲桿連接，絲桿上設(shè)有導(dǎo)軌，絲桿的一端設(shè)有激光位移傳感器，激光位移傳感器沿導(dǎo)軌橫向移動，絲桿上還設(shè)有用于驅(qū)動激光位移傳感器移動的絲桿伺服機構(gòu)；絲桿的另一端設(shè)有一控制裝置，控制裝置的信號接收端連接激光位移傳感器的信號輸出端，控制裝置的信號輸出端連接智能終端；激光位移傳感器的下方設(shè)有旋轉(zhuǎn)的定盤。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，具體涉及一種用于定盤平坦度的測試裝置。

背景技術(shù)

硅片表面的平坦度(TTV,LTV,TAPPER等)是衡量硅片品質(zhì)的重要參數(shù)，半導(dǎo)體行業(yè)后道客戶對硅片的平坦度有著很高的要求。在硅片生產(chǎn)過程中，研磨和拋光是影響硅片平坦度的重要工序，而研磨盤和拋光盤自身的平坦度對硅片平坦度具有重要影響，例如，定盤的凹陷或凸起會導(dǎo)致硅片TAPPER不良。

實際生產(chǎn)中，主要有兩種測試方法：(1)采用一種帶有若干個千分表的簡易測試設(shè)備或采用滑軌式千分表對定盤表面高度進行多點測量；(2)采用水平儀，通過沿直徑方向不同點處的傾斜度，間接地?fù)Q算出各點的高度。上述測試方法的缺點是：(1)不同位置的測量存在高度基準(zhǔn)的差異，測試結(jié)果不可靠；(2)測試點數(shù)有限，測試效率較低，難以得到整個定盤表面的平坦度分布。

實用新型內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本實用新型提供一種用于定盤平坦度的測試裝置，以解決定盤的凹陷或凸起會導(dǎo)致硅片平坦度不良的問題。

本實用新型的技術(shù)方案是：一種用于定盤平坦度的測試裝置，包括一底座，所述底座上方連接一可伸縮的支架，所述支架與絲桿連接，所述絲桿上設(shè)有導(dǎo)軌，所述絲桿的一端設(shè)有激光位移傳感器，所述激光位移傳感器沿所述導(dǎo)軌橫向移動，所述絲桿上還設(shè)有用于驅(qū)動激光位移傳感器移動的絲桿伺服機構(gòu)；

所述絲桿的另一端設(shè)有一控制裝置，所述控制裝置的信號接收端連接所述激光位移傳感器的信號輸出端，所述控制裝置的信號輸出端連接智能終端；

所述激光位移傳感器的下方設(shè)有旋轉(zhuǎn)的定盤。

本實用新型采用激光位移傳感器作為高度測量的核心部件，測試裝置獨立于定盤，確保傳感器的位置始終處于同一高度，提高了測試的可靠性。本實用新型通過控制裝置從而控制傳感器的橫向移動，并且記錄傳感器橫向位置，以及與定盤表面的距離。絲桿伺服機構(gòu)用于驅(qū)動激光傳感器在導(dǎo)軌上作橫向移動。激光位移傳感器可以沿沿導(dǎo)軌作橫向移動，保證傳感器位置在移動過程中始終位于同一高度，確保了所有測試數(shù)據(jù)都位于同一基準(zhǔn)。

所述底座呈三腳結(jié)構(gòu)，且所述底座是由鑄鐵制成。確保測試過程中的穩(wěn)定性。

所述絲桿是由因瓦合金制成的。可以減少環(huán)境溫度波動對測試造成的誤差。

所述激光位移傳感器是精度為1um的距離傳感器。

本實用新型采用基恩士LJ-V7020的距離傳感器。

所述控制裝置與所述智能終端遠程連接，所述控制裝置與所述智能終端可以無線連接或者有線連接。不同的連接方式適用于不同的環(huán)境。

所述智能終端可以是計算機。通過計算機上的軟件分析測試數(shù)據(jù)。

所述底座與所述支架通過螺紋結(jié)構(gòu)連接。便于拆卸。

附圖說明

圖1為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1.底座，2.支架，3.絲桿，4.激光位移傳感器，5.絲桿伺服機構(gòu)，6.控制裝置，7.智能終端，8.定盤。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本實用新型做進一步的說明。