[實用新型]一種雙面曝光數字激光直寫設備有效

申請號：	201821604570.1	申請日：	2018-09-29
公開（公告）號：	CN208752392U	公開（公告）日：	2019-04-16
發明（設計）人：	朱道龍;劉金武;張雷	申請（專利權）人：	蘇州源卓光電科技有限公司
主分類號：	G03F7/20	分類號：	G03F7/20
代理公司：	北京華仲龍騰專利代理事務所(普通合伙) 11548	代理人：	吳月琴
地址：	215000 江蘇省蘇州***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	曝光系統雙面曝光曝光工件數字激光直寫設備本實用新型曝光對位設備平臺對位單面曝光曝光過程生產效率左右兩側曝光機運動軸曝光移動
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【權利要求書】：

1.一種雙面曝光數字激光直寫設備，其特征在于，包括曝光系統A、曝光系統B、待曝光工件和設備平臺，所述設備平臺上左右兩側分別設有曝光系統A和曝光系統B，所述曝光系統A和曝光系統B中間位置處設有固定在設備平臺上的待曝光工件，所述曝光系統A上設有第一曝光對位組件、第一運動軸和第二運動軸，所述曝光系統B上設有第二曝光對位組件、第三運動軸和第四運動軸，所述第一曝光對位組件在第一運動軸的驅動下沿Y方向移動，在第二運動軸的驅動下沿X方向移動，所述第二曝光對位組件在第三運動軸的驅動下沿Y方向移動，在第四運動軸的驅動下沿X方向移動。

2.根據權利要求1所述的一種雙面曝光數字激光直寫設備，其特征在于：所述待曝光工件通過工件吸盤固定在設備平臺上。

3.根據權利要求1所述的一種雙面曝光數字激光直寫設備，其特征在于：所述待曝光工件通過夾具固定在設備平臺上。

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