[實用新型]一種具有反饋控制光纖刻寫裝置

有效

• 申請號: 201821598496.7
• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN208705516U
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發明（設計）人: 謝建毫;劉東昌;梁嘉裕;黃沃彬
• 申請（專利權）人: 深圳伊訊科技有限公司
• 主分類號: G02B6/02
• 分類號: G02B6/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，包括擴束鏡、反射鏡、光闌、平凸透鏡、相位掩模板、V型槽光纖夾具、光纖、光纖光柵檢測儀、準分子激光器、機器視覺、上位機；所述V型槽光纖夾具設置有多個，多個V型槽光纖夾具固定所述光纖兩端，所述光纖與所述擴束鏡垂直設置，所述準分子激光器采用所述擴束鏡調整光斑面積，所述光纖與所述反射鏡呈45度夾角設置，所述光纖與所述光闌平行設置，所述平凸透鏡設置與所述光闌下方平行設置，所述相位掩模板設置于所述平凸透鏡下方并于所述光纖平行設置，所述準分子激光器與所述上位機相連，所述上位機分別與光纖光柵檢測儀和所述機器視覺相連，所述機器視覺與所述光纖相連。

技術領域

本實用新型涉及光纖光柵刻寫技術領域，尤其涉及一種具有反饋控制光纖刻寫裝置。

背景技術

光纖光柵是光纖發明以來半個世紀中發展最為重要的光子器件，其具有的靈敏度高、體積小，重量輕，抗干擾性高等優點，在光纖傳感領域中得到廣泛的應用。

每個FBG在恒定的溫度下都具有一個特定的反射中心波長，即布拉格中心波長，因此FBG具有波分復用特性，可以在單個傳感通道內串聯多個FBG傳感器同時測量而不相互影響，該特性增強了FBG傳感器的實際適用性。在實際應用中對FBG的帶寬要求和布拉格中心波長有特定的要求，在普通的光傳感系統中，FBG帶寬范圍為0.2-0.3nm，在使用中其占用光源帶寬范圍一般為0.5nm-2nm。在光纖傳感常用的C波段內，由于其帶寬有限，在對其進行波分復用的情況下，需要對每個FBG所占用的帶寬通道進行嚴格控制，因此要求每個通道內對應的FBG的布拉格中心波長的數值可控，同個通道內所串聯的FBG的中心波長的間距相同，可增大系統的傳感器容量。

目前常見的FBG光柵的制作方法有，雙光束全息干涉橫向刻寫法，相位掩模板法和飛秒激光器刻寫法。

針對現有使用的相位掩模板的FBG刻寫方法中，需要在線監測光路，刻寫光纖情況，否則難以保證刻寫光纖光柵的一致性。但是刻寫過程中的外在的因素同樣影響刻寫質量，比如光路或者刻寫光纖的外界環境因素。

實用新型內容

為了克服上述現有技術的不足，本實用新型提出了一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，利用機器視覺、光纖光柵檢測儀以及準分子激光器反饋刻寫狀態，達到刻寫一致性高的目的。

本實用新型解決上述技術問題的技術方案如下：一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，包括擴束鏡、反射鏡、光闌、平凸透鏡、相位掩模板、V型槽光纖夾具、光纖、光纖光柵檢測儀、準分子激光器、機器視覺、上位機；所述V型槽光纖夾具設置有多個，多個V型槽光纖夾具固定所述光纖兩端，所述光纖與所述擴束鏡垂直設置，所述準分子激光器采用所述擴束鏡調整光斑面積，所述光纖與所述反射鏡呈45度夾角設置，所述光纖與所述光闌平行設置，所述平凸透鏡設置與所述光闌下方平行設置，所述相位掩模板設置于所述平凸透鏡下方并于所述光纖平行設置，所述準分子激光器與所述上位機相連，所述上位機分別與光纖光柵檢測儀和所述機器視覺相連，所述機器視覺與所述光纖相連。

進一步地，所述相位掩模板使準分子激光器發出的光發生衍射，光的0級衍射被抑制，+1和-1的衍射被增強。

進一步地，所述光纖刻寫前先進行載氫處理，利用紫外光透過相位掩模板后的衍射光形成干涉光，對光纖進行曝光，使纖芯折射率產生周期性變化，從而在光纖上刻寫光纖光柵。

進一步地，所述光纖光柵檢測儀用于實時檢測光纖上刻寫的光纖光柵纖芯折射率，將檢測到的纖芯折射率反饋給上位機。

進一步地，所述機器視覺用于檢測光纖的位置是否屬于刻寫光纖光柵區域，如檢測為不屬于刻寫光纖光柵區域，則上位機提示無法刻寫光纖光柵；如檢測為屬于刻寫光纖光柵區域，則上位機正?？虒懝饫w光柵不做提示。