[實用新型]一種具有反饋控制光纖刻寫裝置

有效

• 申請號: 201821598496.7
• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN208705516U
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發明（設計）人: 謝建毫;劉東昌;梁嘉裕;黃沃彬
• 申請（專利權）人: 深圳伊訊科技有限公司
• 主分類號: G02B6/02
• 分類號: G02B6/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，其特征在于：包括擴束鏡(1)、反射鏡(2)、光闌(3)、平凸透鏡(4)、相位掩模板(5)、V型槽光纖夾具(6)、光纖(7)、光纖光柵檢測儀(8)、準分子激光器(9)、機器視覺(10)、上位機(11)；所述V型槽光纖夾具(6)設置有多個，多個V型槽光纖夾具(6)固定所述光纖(7)兩端，所述光纖(7)與所述擴束鏡(1)垂直設置，所述準分子激光器(9)采用所述擴束鏡(1)調整光斑面積，所述光纖(7)與所述反射鏡(2)呈45度夾角設置，所述光纖(7)與所述光闌(3)平行設置，所述平凸透鏡(4)設置與所述光闌(3)下方平行設置，所述相位掩模板(5)設置于所述平凸透鏡(4)下方并于所述光纖(7)平行設置，所述準分子激光器(9)與所述上位機(11)相連，所述上位機(11)分別與光纖光柵檢測儀(8)和所述機器視覺(10)相連，所述機器視覺(10)與所述光纖(7)相連。

2.根據權利要求1所述的一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，其特征在于：所述相位掩模板(5)使準分子激光器(9)發出的光發生衍射，光的0級衍射被抑制，+1和-1的衍射被增強。

3.根據權利要求1所述的一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，其特征在于：所述光纖(7)寫前先進行載氫處理，利用紫外光透過相位掩模板(5)后的衍射光形成干涉光，對光纖進行曝光，使纖芯折射率產生周期性變化，從而在光纖(7)上刻寫光纖光柵。

4.根據權利要求1所述的一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，其特征在于：所述光纖光柵檢測儀(8)用于實時檢測光纖(7)上刻寫的光纖光柵纖芯折射率，將檢測到的纖芯折射率反饋給上位機(11)。

5.根據權利要求1所述的一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，其特征在于：所述機器視覺(10)用于檢測光纖(7)的位置是否屬于刻寫光纖光柵區域，如檢測為不屬于刻寫光纖光柵區域，則上位機(11)提示無法刻寫光纖光柵；如檢測為屬于刻寫光纖光柵區域，則上位機(11)正常刻寫光纖光柵不做提示。

6.根據權利要求1所述的一種具有反饋控制光纖刻寫裝置，其特征在于：所述準分子激光器(9)用于檢測發出激光信號是否符合刻寫光纖光柵的要求，如檢測為不符合刻寫光纖光柵要求，則上位機(11)提示無法刻寫光纖光柵；如檢測為符合刻寫光纖光柵要求，則上位機(11)正常刻寫光纖光柵不做提示。