[實用新型]一種可調分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201821593008.3
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN208898984U
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發明（設計）人: 胡冰;張榮光;時炳忠
• 申請（專利權）人: 天津南玻節能玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 天津濱海科緯知識產權代理有限公司 12211
• 代理人: 李莎

本實用新型提供了一種可調分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，包括真空濺射室，真空濺射室的內設有用于傳送玻璃基材的傳送輥，真空濺射室的頂部內壁設有靶材基座，靶材基座的下端設有靶材，靶材基座上滑動設有隔氣板，隔氣板包括板頂和板身，板身的兩側對稱設有第一提升機構和第二提升機構，第一提升機構包括第一齒輪，板身的外壁設有與第一齒輪相嚙合的第一齒條，第二提升機構包括第二齒輪,板身的外壁設有與第二齒輪相嚙合的第二齒條，第一齒輪和第二齒輪均由電機驅動，第一齒輪和第二齒輪的轉動方向相反。本實用新型能連續調節隔氣板的高度，結構簡單，操作方便。

技術領域

本實用新型屬于玻璃鍍膜技術領域，尤其是涉及一種可調分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置。

背景技術

濺射是指利用高能粒子轟擊固體靶材表面，使得固體表面的原子和分子與入射的高能粒子交換動能，從而從固體表面飛濺出來的現象。濺射出來的原子或原子團具有一定的能量，可以重新凝聚，沉積在固體基片上形成薄膜。濺射法制備薄膜通常是濺射腔室內通入氬氣，利用氣體放電電離后產生的正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶材，將陰極靶材的原子或分子擊出，濺射到待鍍膜基片沉積成薄膜。

在實際應用中，一般通過磁場來改變電子的運動方向，以此來束縛和延長電子的運動軌跡，增加對陰極靶材的有效轟擊，成為磁控濺射，磁控濺射一般在真空環境中進行，磁控濺射鍍膜機是常見的真空濺射鍍膜設備。

采用臥式真空鍍膜設備對玻璃進行鍍膜時，分子泵隔氣板起到調節氣流的方向和大小的作用。為避免在生產很厚的夾層玻璃時容易夾住玻璃，專利號為CN204151410U的中國專利公開了一種可調分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置。然而該裝置不能對隔氣板的高度進行連續調節，因此不能適應不同厚度的夾層玻璃的生產需求。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型旨在提出一種可調分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，以連續調節隔氣板的高度，結構簡單，操作方便。

為達到上述目的，本實用新型的技術方案是這樣實現的：

一種可調分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，包括真空濺射室，真空濺射室的頂部設有與真空濺射室相連通的抽真空裝置，真空濺射室的下部設有送氣裝置，真空濺射室的內腔底部設有支架，支架上設有用于傳送玻璃基材的傳送輥，真空濺射室的頂部內壁設有靶材基座，靶材基座的下端設有靶材，靶材基座上滑動設有隔氣板，隔氣板包括板頂和從板頂的邊緣向下延伸形成的板身，板頂的中心開設有與靶材基座的橫截面尺寸相匹配的通孔，隔氣板套設于靶材基座上，板身的兩側對稱設有第一提升機構和第二提升機構，第一提升機構包括第一齒輪，板身的外壁設有與第一齒輪相嚙合的第一齒條，第二提升機構包括第二齒輪,板身的外壁設有與第二齒輪相嚙合的第二齒條，第一齒輪和第二齒輪均由電機驅動，第一齒輪和第二齒輪的轉動方向相反。

進一步的，板頂呈圓形或長方形，板頂與真空濺射室的頂部內壁之間有空隙，板身與真空濺射室的內側壁之間有空隙。

進一步的，抽真空裝置包括位于真空濺射室的頂部的兩個抽氣口，兩個抽氣口位于靶材基座的兩側，兩個抽氣口各連接有一抽氣支管，兩個抽氣口上連接的抽氣支管匯合形成抽氣總管，抽氣總管連接有分子泵。

進一步的，送氣裝置包括送氣總管，送氣總管連接有兩個送氣分管，兩個送氣分管分別設于真空濺射室的兩側，送氣總管連接有外部氣源。

進一步的，真空濺射室的側壁設有由透明玻璃制成的觀察窗。

進一步的，真空濺射室的頂部設有與真空濺射室的內腔相通的套筒，套筒的頂部密封，板頂的上表面固定有與套筒相匹配的定位柱，定位柱插設于套筒內。

進一步的，傳送輥的外周面包覆有橡膠層。

相對于現有技術，本實用新型所述的可調分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置具有以下優勢：