[實(shí)用新型]一種可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821593008.3
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN208898984U
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡冰;張榮光;時(shí)炳忠
• 申請（專利權(quán)）人: 天津南玻節(jié)能玻璃有限公司;中國南玻集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 天津?yàn)I海科緯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 12211
• 代理人: 李莎

1.一種可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：包括真空濺射室(1)，真空濺射室(1)的頂部設(shè)有與真空濺射室(1)相連通的抽真空裝置(2)，真空濺射室(1)的下部設(shè)有送氣裝置(3)，真空濺射室(1)的內(nèi)腔底部設(shè)有支架(4)，支架(4)上設(shè)有用于傳送玻璃基材的傳送輥(41)，真空濺射室(1)的頂部內(nèi)壁設(shè)有靶材基座(11)，靶材基座(11)的下端設(shè)有靶材(12)，靶材基座(11)上滑動(dòng)設(shè)有隔氣板(5)，隔氣板(5)包括板頂(51)和從板頂(51)的邊緣向下延伸形成的板身(52)，板頂(51)的中心開設(shè)有與靶材基座(11)的橫截面尺寸相匹配的通孔(511)，隔氣板(5)套設(shè)于靶材基座(11)上，板身(52)的兩側(cè)對稱設(shè)有第一提升機(jī)構(gòu)(6)和第二提升機(jī)構(gòu)(7)，第一提升機(jī)構(gòu)(6)包括第一齒輪(61)，板身(52)的外壁設(shè)有與第一齒輪(61)相嚙合的第一齒條(62)，第二提升機(jī)構(gòu)(7)包括第二齒輪(71),板身(52)的外壁設(shè)有與第二齒輪(71)相嚙合的第二齒條(72)，第一齒輪(61)和第二齒輪(71)均由電機(jī)驅(qū)動(dòng)，第一齒輪(61)和第二齒輪(71)的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相反。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：板頂(51)呈圓形或長方形，板頂(51)與真空濺射室(1)的頂部內(nèi)壁之間有空隙，板身(52)與真空濺射室(1)的內(nèi)側(cè)壁之間有空隙。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：抽真空裝置(2)包括位于真空濺射室(1)的頂部的兩個(gè)抽氣口，兩個(gè)抽氣口位于靶材基座(11)的兩側(cè)，兩個(gè)抽氣口各連接有一抽氣支管(21)，兩個(gè)抽氣口上連接的抽氣支管(21)匯合形成抽氣總管(22)，抽氣總管(22)連接有分子泵(23)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：送氣裝置(3)包括送氣總管(31)，送氣總管(31)連接有兩個(gè)送氣分管(32)，兩個(gè)送氣分管(32)分別設(shè)于真空濺射室(1)的兩側(cè)，送氣總管(31)連接有外部氣源。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：真空濺射室(1)的側(cè)壁設(shè)有由透明玻璃制成的觀察窗(13)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：真空濺射室(1)的頂部設(shè)有與真空濺射室(1)的內(nèi)腔相通的套筒(14)，套筒(14)的頂部密封，板頂(51)的上表面固定有與套筒(14)相匹配的定位柱(8)，定位柱(8)插設(shè)于套筒(14)內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可調(diào)分子泵隔氣板高度的真空磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：傳送輥(41)的外周面包覆有橡膠層。