[實用新型]對焦補償設備

有效

• 申請號: 201821587958.5
• 申請日: 2018-09-27
• 公開（公告）號: CN208739260U
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: 桂宇暢
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: H04N5/235
• 分類號: H04N5/235;H04N5/232
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本實用新型公開一種對焦補償的設備，包含：一曝光機鏡組，具有一焦點；一待測物平臺，配置用以放置一待測物，所述曝光機鏡組對所述待測物以多個不同的對焦條件對多個線段的一軸線方向上的多個點進行量測多個線寬，以得到多個量測值；一處理模組，配置用以將所述多個量測值形成至少一線寬曲線，并依照所述至少一線寬曲線生成一補償信號；及一通信模組，配置用以將所述補償信號傳送至所述曝光機鏡組，以所述曝光機鏡組的一對焦作業進行補正。本實用新型通過對產品量測線寬，并反饋所述曝光機的對焦情況，再經過對曝光機對焦的補正，以達到改善曝光機對焦的精度。

技術領域

本發明是有關于一種對焦補償的方法及其設備，特別是有關于一種曝光機臺的對焦補償的方法及其設備。

背景技術

近年來，半導體集成電路的高集成化及微細化的需求，對于對焦的精度要求越加嚴格。以液晶顯示器行業為例，隨著對液晶屏幕分辨率的要求越來越高，產品對曝光機的對焦精度隨著具有更高的要求。一般而言，目前技術主要通過曝光機對多個點位計測來提高對焦的穩定性。然而，顯示器的低溫多晶硅制程在實際曝光機的對焦使用上仍具有下述問題，例如：因低溫多晶硅制程中層別堆疊復雜，且光罩自身平整度、撓曲量等參數，會對曝光機對焦的精度造成較大的影響。

故，有必要提供一種對焦補償的方法，以解決現有技術所存在的問題。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種對焦補償的方法，以解決現有技術所存在的曝光機對焦精度不足的問題。

本發明的主要目的在于提供一種對焦補償的方法，其可以改善曝光機對焦的精度。

本發明的次要目的在于提供一種對焦補償的方法，其可以考量待測物自身平整度、撓曲量，進而對曝光機的對焦進行補正，以達到改善曝光機對焦的精度。

為達成本發明的前述目的，本發明一實施例提供一種對焦補償的方法，其中所述對焦補償的方法包含︰(S11)提供一曝光機鏡組，具有一焦點；(S12)提供一待測物，對所述待測物以多個不同的對焦條件對多個線段的一軸線方向上的多個點進行量測多個線寬，以得到多個量測值，將所述多個量測值形成至少一線寬曲線；以及(S13)依照所述至少一線寬曲線對所述曝光機鏡組的一對焦作業進行補正。

再者，本發明另一實施例另提供一種對焦補償的設備，其中所述對焦補償的設備包含︰一曝光機鏡組，具有一焦點；一待測物平臺，配置用以放置一待測物，所述曝光機鏡組對所述待測物以多個不同的對焦條件對多個線段的一軸線方向上的多個點進行量測多個線寬，以得到多個量測值；一處理模組，配置用以將所述多個量測值形成至少一線寬曲線，并依照所述至少一線寬曲線生成一補償信號；及一通信模組，配置用以將所述補償信號傳送至所述曝光機鏡組，以所述曝光機鏡組的一對焦作業進行補正。

在本發明的一實施例中，所述多個不同的對焦條件為將所述待測物置于多個不同焦平面下，并對所述待測物進行量測所述線寬。

在本發明的一實施例中，所述多個不同的對焦條件為將所述待測物置于五個焦平面下，其中所述五個焦平面為所述焦點-40微米、所述焦點-20微米、所述焦點、所述焦點+20微米及所述焦點+40微米。

在本發明的一實施例中，所述的步驟(S12)更包含：將所述焦點處量測的一第一線寬與所述線寬曲線中的最低點處的一第二線寬相減，以得到一補償值；及利用所述補償值對所述曝光機鏡組的一對焦作業進行補正。

在本發明的一實施例中，所述的步驟(S12)更包含：對所述多個線段的多個軸線方向上的多個點量測所述多個線寬，以得到多個線寬曲線；及通過所述多個線寬曲線得到多個補償值，以利用所述多個補償值將所述曝光機鏡組對所述多個線段的多個軸線方向上的多個點處的所述對焦作業進行補正。

在本發明的一實施例中，所述待測物平臺包含一高度調整機構，配置用以將所述待測物平臺設置為不同高度，用于將所述待測物置于多個不同焦平面下，并對所述待測物進行量測所述線寬。