[實用新型]對焦補償設備

有效

• 申請號: 201821587958.5
• 申請日: 2018-09-27
• 公開（公告）號: CN208739260U
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: 桂宇暢
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: H04N5/235
• 分類號: H04N5/235;H04N5/232
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

1.一種對焦補償的設備，其特征在于：所述對焦補償的設備包含：

一曝光機鏡組，具有一焦點；

一待測物平臺，配置用以放置一待測物，所述曝光機鏡組對所述待測物以多個不同的對焦條件對多個線段的一軸線方向上的多個點進行量測多個線寬，以得到多個量測值；

一處理模組，配置用以將所述多個量測值形成至少一線寬曲線，并依照所述至少一線寬曲線生成一補償信號；及

一通信模組，配置用以將所述補償信號傳送至所述曝光機鏡組，以所述曝光機鏡組的一對焦作業進行補正。

2.如權利要求1所述的對焦補償的設備，其特征在于：所述待測物平臺包含一高度調整機構，配置用以將所述待測物平臺設置為不同高度，用于將所述待測物置于多個不同焦平面下，并對所述待測物進行量測所述線寬。

3.如權利要求2所述的對焦補償的設備，其特征在于：所述高度調整機構具有五個不同高度對應于所述曝光機鏡組的五個焦平面，所述五個焦平面分別為所述焦點-40微米、所述焦點-20微米、所述焦點、所述焦點+20微米及所述焦點+40微米。

4.如權利要求3所述的對焦補償的設備，其特征在于：所述處理模組更配置用以將所述焦點處量測的一第一線寬與所述線寬曲線中的最低點處的一第二線寬相減，以得到一補償值并轉換成所述補償信號。

5.如權利要求4所述的對焦補償的設備，其特征在于：所述曝光機鏡組更包含多個鏡組，配置用以同時對所述多個線段的多個軸線方向上的多個點量測所述多個線寬，以得到多個線寬曲線；及

所述處理模組，配置用以通過所述多個線寬曲線得到多個補償值，以利用所述多個補償值將所述曝光機鏡組對所述多個線段的多個軸線方向上的多個點處的所述對焦作業進行補正。