[實用新型]一種氧化鈮靶材制作裝置有效
| 申請號: | 201821574772.6 | 申請日: | 2018-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN208869649U | 公開(公告)日: | 2019-05-17 |
| 發明(設計)人: | 魏明剛 | 申請(專利權)人: | 深圳市福耐科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 陳娟 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區沙井街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氧化鈮靶材 研磨 固定桿 轉軸 制作裝置 本實用新型 轉軸外壁 左右兩側 上表面 支撐臺 刮板 操作臺 第二進料口 第一進料口 進料配比 兩端對稱 研磨球 致密性 底端 箱腔 架設 | ||
本實用新型公開了一種氧化鈮靶材制作裝置,包括操作臺,所述操作臺上表面的左右兩端對稱設有支撐臺,所述支撐臺之間架設有研磨箱,所述研磨箱腔內中部的位置設有轉軸,所述轉軸外壁的左右兩側中部的位置固定連接有第一固定桿,所述第一固定桿遠離轉軸的一端固定連接有刮板,所述轉軸外壁的左右兩側下端的位置固定連接有第二固定桿,所述第二固定桿遠離轉軸的一端與刮板固定連接,所述轉軸的底端固定連接有第一研磨球,所述研磨箱上表面左端的位置設有第一進料口,所述研磨箱上表面右端的位置設有第二進料口,本實用新型涉及氧化鈮靶材技術領域。該用于氧化鈮靶材制作裝置,達到了研磨均勻、控制進料配比的目的,提高了氧化鈮靶材的致密性。
技術領域
本實用新型涉及氧化鈮靶材技術領域,具體為一種氧化鈮靶材制作裝置。
背景技術
氧化鈮靶材是制備減反增透玻璃、氧化銦錫玻璃的重要材料,此外,氧化鈮靶材也被廣泛應用于太陽能電池、光學玻璃和手機觸屏等領域。目前,氧化鈮靶材的制備主要采用熱壓燒結工藝,氧化鈮靶材的制備需要先將五氧化二鈮粉和金屬鈮粉按照一定的配比進行混合,如果配比稍有偏差,就會影響氧化鈮靶材的致密性,混合好五氧化二鈮粉和金屬鈮粉后,需要對其進行研磨,使原料粉質更加細膩,以提高氧化鈮靶材的致密性。
現有的氧化鈮靶材制作裝置直接將混合好五氧化二鈮粉和金屬鈮粉倒入模具中,然后通過燒結爐進行燒制,不能精確控制五氧化二鈮粉和金屬鈮粉的配比,而且,現有的球磨罐的研磨不夠均勻,會影響氧化鈮靶材的致密性。
實用新型內容
(一)解決的技術問題
針對現有技術的不足,本實用新型提供了一種氧化鈮靶材制作裝置,解決了研磨不均勻、控制進料配比的問題。
(二)技術方案
為實現以上目的,本實用新型通過以下技術方案予以實現:一種氧化鈮靶材制作裝置,包括操作臺,所述操作臺上表面的左右兩端對稱設置有支撐臺,所述支撐臺外壁的底部與操作臺的上表面固定連接,所述支撐臺之間架設有研磨箱,所述研磨箱靠近支撐臺的一側均與支撐臺固定連接,所述研磨箱腔內中部的位置設置有轉軸,所述轉軸外壁的左右兩側中部的位置固定連接有第一固定桿,所述第一固定桿遠離轉軸的一端固定連接有刮板,所述轉軸外壁的左右兩側下端的位置固定連接有第二固定桿,所述第二固定桿遠離轉軸的一端與刮板固定連接,所述轉軸的底端固定連接有第一研磨球,所述研磨箱上表面左端的位置設置有第一進料口,所述研磨箱上表面右端的位置設置有第二進料口。
優選的,所述研磨箱上表面中部的位置安裝有電機,所述轉軸的頂端貫穿研磨箱且與電機轉動連接。
優選的,所述支撐臺的截面呈L型,所述刮板遠離第一固定桿的一側貼近研磨箱的內壁設置。
優選的,所述第一研磨球的左右兩側對稱設置有第二研磨球,所述第二研磨球的上端固定連接有第三固定桿,所述第三固定桿遠離第二研磨球的一端與第二固定桿固定連接。
優選的,所述第一進料口和第二進料口的上端均設置有進料斗,所述進料斗的外壁左側的位置設置有刻度尺,所述進料斗的底部連通有通口,所述通口的底端與研磨箱的內部連通。
優選的,所述研磨箱外壁的底部中部的位置開設有出料口,所述操作臺的上表面且靠近出料口的位置放置有模具。
(三)有益效果
本實用新型提供了一種氧化鈮靶材制作裝置。具備以下有益效果:
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