[實用新型]一種用于真空磁控濺射鍍膜靶材的邦定裝置

有效

• 申請號: 201821568226.1
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN208898983U
• 公開（公告）日: 2019-05-24
• 發明（設計）人: 趙斌;馬建雨
• 申請（專利權）人: 惠州市烯谷新能源產業技術研究院有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 深圳市德錦知識產權代理有限公司 44352
• 代理人: 丁敬偉

本實用新型提供一種用于真空磁控濺射鍍膜靶材的邦定裝置，包括有支撐結構，所述支撐結構上設有加熱裝置，所述加熱裝置包括若干均勻布置的加熱體，所述加熱體分別接電連接控制，所述加熱裝置上放置有與靶材尺寸相匹配的加熱臺面。本實用新型在實際應用中，邦定裝置的加熱臺面可根據靶材的尺寸大小相應地進行更換，加熱裝置功率可調，能提高邦定裝置的適用性，降低制造成本。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜、電池電容器薄膜制造及光電顯示薄膜制造行業，具體涉及一種用于真空磁控濺射鍍膜靶材的邦定裝置。

背景技術

目前，市場上銷售的靶材邦定臺要根據不同用戶的靶材固定尺寸定做；其不足是：加熱功率固定不能調節、焊接超大尺寸的靶材時臺面尺寸及功率不足、焊接超小尺寸靶材時浪費電能、且價格高、制作周期長等；一種邦定臺只能對應一定尺寸的靶材焊接；而當需要焊接的靶材尺寸較長時，邦定臺就不夠尺寸了，需要重新定做邦定臺焊靶材，造成邦定臺使用效率低，制造成本高。如何使邦定裝置能適應不同尺寸的鍍膜靶材進行邦定，是本實用新型需要解決的技術問題。為此，本實用新型就是在這樣的背景下而研制。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中鍍膜靶材邦定裝置無法適應不同尺寸的靶材且加熱功率固定無法調節的技術問題，提供一種用于真空磁控濺射鍍膜靶材的邦定裝置。

為解決上述技術問題，本實用新型采用技術方案如下：

本實用新型提供一種用于真空磁控濺射鍍膜靶材的邦定裝置，包括有支撐結構，所述支撐結構上設有加熱裝置，所述加熱裝置包括若干均勻布置的加熱體，所述加熱體分別接電連接控制，所述加熱裝置上放置有與靶材尺寸相匹配的加熱臺面。

所述加熱體為電阻絲加熱盤。

所述加熱體下方還設有用于放置所述加熱體的托盤，所述托盤固定在所述支撐結構上。

進一步地，還包括溫控箱，所述溫控箱用于調節所述加熱裝置的通斷和加熱溫度。

所述托盤上設有能與所述電阻絲加熱盤相匹配的固定槽，用于防止所述電阻絲加熱盤移動。

所述固定槽上設有能與電阻絲加熱盤相匹配的供電接口。

所述電阻絲加熱盤包括電阻絲和用于放置所述電阻絲的陶瓷底盤。

綜上所述，本實用新型的有益效果是：

本實用新型在實際應用中，邦定裝置的加熱臺面可根據靶材的尺寸大小相應地進行更換，加熱裝置功率可調，能提高邦定裝置的適用性，降低制造成本。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型做進一步描述。

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖2是本實用新型的爆炸示意圖。

圖3是本實用新型的另一實施方式結構示意圖。

具體實施方式

在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內”、“外”、“順時針”、“逆時針”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。

此外，術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本實用新型的描述中，“多個”的含義是兩個或兩個以上，除非另有明確具體的限定。