[實(shí)用新型]波長可調(diào)諧曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821567135.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208737223U | 公開(公告)日: | 2019-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F9/00 | 分類號(hào): | G03F9/00 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明偉 |
| 地址: | 230601 安徽省合肥市合肥*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波長可調(diào)諧激光器 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 波長可調(diào)諧 曝光機(jī) 本實(shí)用新型 波長信號(hào) 光源部件 波長 光源 激光 可調(diào)諧激光器 控制器控制 對(duì)準(zhǔn)圖形 控制器 可調(diào)諧 波段 套刻 圖樣 補(bǔ)救 對(duì)準(zhǔn) 優(yōu)化 表現(xiàn) | ||
本實(shí)用新型提供一種波長可調(diào)諧曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),該對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)包括:光源部件,所述光源部件包括第一波長可調(diào)諧激光器和第二波光可調(diào)諧激光器,以及波長信號(hào)控制器,其中第一波長可調(diào)諧激光器和第二波長可調(diào)諧激光器能夠提供可調(diào)諧波長的激光,波長信號(hào)控制器控制第一波長可調(diào)諧激光器和第二波長可調(diào)諧激光器發(fā)出指定波段的激光。本實(shí)用新型的波長可調(diào)諧曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可以通過調(diào)節(jié)光源的波長來選擇或優(yōu)化用于對(duì)準(zhǔn)圖樣的光源,從而得到更好或者更穩(wěn)定的產(chǎn)品套刻表現(xiàn);此外,還可以提供補(bǔ)救方案來應(yīng)對(duì)工藝不穩(wěn)定而造成的對(duì)準(zhǔn)圖形異常的情況。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及用于IC器件或者其他微型器件制造的系統(tǒng),尤其涉及一種曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可應(yīng)用于半導(dǎo)體激光對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和激光對(duì)準(zhǔn)圖形后信號(hào)檢測(cè)。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)中,曝光機(jī)通常使用雙光源(紅光/綠光)或者四光源(紅光/綠光/遠(yuǎn)紅外光/近紅外光),光源的具體選擇取決于所應(yīng)用的硬件。對(duì)于四光源曝光機(jī)來講,如圖1和2中所示,采用了綠光(532nm)/紅光(635nm)/近紅外光(780nm)/遠(yuǎn)紅外光(850nm)的四種光源,每種光源為單一波長光源,對(duì)準(zhǔn)時(shí)利用光源在標(biāo)記的凸起和凹陷處反射光的干涉來進(jìn)行判定,但是因?yàn)閱我徊ㄩL的使用,為了使得接收信號(hào)在特定區(qū)域相干,在設(shè)計(jì)標(biāo)記深度的時(shí)候必須要考慮單一光源的波長,這樣會(huì)使得標(biāo)記深度D的設(shè)計(jì)受到限制。
此外,參考圖3和圖4,現(xiàn)有技術(shù)中光源對(duì)可讀取的對(duì)準(zhǔn)圖形的節(jié)距尺寸d具有限制。數(shù)值孔徑NA=nsinθ,而sinθ=mλ/d,其中對(duì)于空氣而言n=1,m是在標(biāo)記上下表面兩束反射光的相干級(jí)數(shù),綜合以上兩個(gè)等式可知,d≥mλ/NA。可見現(xiàn)有技術(shù)中固定波長光源的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)標(biāo)記節(jié)距尺寸的最小值存在限制。
綜上可看出,現(xiàn)有技術(shù)中的曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)存在如下缺陷:對(duì)準(zhǔn)圖樣的節(jié)距尺寸和深度受到限制。此外,對(duì)于蝕刻或化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)等工藝不穩(wěn)定而造成的對(duì)準(zhǔn)圖樣的異常的情況下,對(duì)于單一波長的曝光對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)沒有備用補(bǔ)救方案。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了解決上述問題中的一項(xiàng)或多項(xiàng)而提出了本實(shí)用新型。本實(shí)用新型提供了一種波長可調(diào)諧曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。
根據(jù)第一方面,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種波長可調(diào)諧曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),包括:光源部件,其特征在于,所述光源部件包括第一波長可調(diào)諧激光器和第二波長可調(diào)諧激光器,以及波長信號(hào)控制器,其中第一波長可調(diào)諧激光器和第二波長可調(diào)諧激光器能夠提供波長可調(diào)諧的激光,波長信號(hào)控制器控制第一波長可調(diào)諧激光器和第二波長可調(diào)諧激光器發(fā)出指定波段的激光。
通過提供波長可調(diào)諧的激光用于曝光對(duì)準(zhǔn),可以不限于固定的兩種或四種單一波長光源選項(xiàng),避免了對(duì)對(duì)準(zhǔn)圖樣節(jié)距尺寸和深度的限制。
可選地,第一可調(diào)諧激光器和第二波長可調(diào)諧激光器被設(shè)計(jì)為:其中一個(gè)激光器發(fā)出高波段的激光,另一個(gè)激光器發(fā)出低波段的激光,具體地,高波段為650-950nm,低波段為189-650nm;或者第一可調(diào)諧激光器和第二波長可調(diào)諧激光器均使用全幅波段的激光,具體地,全幅波段為189-950nm。
通過對(duì)激光器所發(fā)出光的波長區(qū)域限制,提高了可選波長范圍,進(jìn)一步有助于本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)。
可選地,一種波長可調(diào)諧曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)還包括第一反射元件,瞳板,級(jí)膜,第二反射元件,成像透鏡,參考光柵,檢測(cè)部和偏振分束器,光從光源部件發(fā)出之后被第一反射元件反射至偏振分束器,之后入射至對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記,經(jīng)過對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記衍射的光束通過偏振分束器后依次經(jīng)過瞳板,級(jí)膜,第二反射元件,成像透鏡,參考光柵之后被檢測(cè)部接收,檢測(cè)部中包括用于將光信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào)的光電轉(zhuǎn)換板。
可選地,一種波長可調(diào)諧曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),還包括CCD相機(jī),經(jīng)過瞳板和級(jí)膜輸出的一部分光通過一反射元件轉(zhuǎn)換方向,并依次通過會(huì)聚透鏡和成像透鏡成像在CCD相機(jī)上。
通過設(shè)置CCD相機(jī)以及對(duì)經(jīng)其成的像進(jìn)行分析能夠?qū)崿F(xiàn)粗調(diào)整。
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