[實用新型]排氣式矩形工作臺

有效

• 申請號: 201821566707.9
• 申請日: 2018-09-26
• 公開（公告）號: CN209007492U
• 公開（公告）日: 2019-06-21
• 發明（設計）人: 殷澤安;劉操;曹志彬
• 申請（專利權）人: 東莞市譯碼半導體有限公司
• 主分類號: B25H1/00
• 分類號: B25H1/00;B25B11/00
• 代理公司: 北京易光知識產權代理有限公司 11596
• 代理人: 李韻

本實用新型公開了一種排氣式矩形工作臺，包括工作臺本體，所述工作臺本體的橫截面呈矩形狀，工作臺本體中開有若干第一軸向排氣槽及第二軸向排氣槽，第一軸向排氣槽與第二軸向排氣槽相互垂直交叉，工作臺本體上開有一排氣孔及多個放電通氣孔，排氣孔、多個放電通氣孔均分別設置于第一軸向排氣槽與第二軸向排氣槽交叉處，工作臺本體的中部設有連接頭，連接頭上設有多個通孔，通孔與放電通氣孔相貫通。本實用新型工作臺本體中的連接頭與抽氣裝置連接，抽氣裝置開啟使連接頭中的通孔與工作臺本體的放電通氣孔、第一軸向排氣槽、第二軸向排氣槽、矩形排氣槽形成氣道，將半導體多晶硅芯片與工作臺本體之間的空氣排空，利用氣壓差便于二次加工。

技術領域

本實用新型涉及一種排氣式矩形工作臺，具體涉及一種結構合理，緊湊穩定，經濟方便的用于儲存半導體多晶硅芯片的排氣式矩形工作臺。

背景技術

中國專利申請號：201320863303.7，公開了一種磨邊設備真空平臺，包括真空平臺本體，所述真空平臺本體一端面為工作臺面，所述工作臺面間隔設置有多個真空吸嘴，所述真空吸嘴頂部凸出于所述工作臺面，所述真空吸嘴開設有真空吸附孔，所述真空吸附孔連通真空發生裝置。

中國專利申請號：201520709994.4，公開了一種組合式多用磁性真空工作平臺，包括工作臺底座，所述工作臺底座上安裝有底板、前擋板、后擋板、左側板和右側板，所述底板水平固定安裝在所述工作臺底座上，所述前擋板、后擋板、左側板和右側板與所述工作臺底座垂直設置；所述左側板和右側板將所述底板分成第一工作臺面、第二工作臺面、第三工作臺面、第四工作臺面、以及第五工作臺面，所述第三工作臺面設置在所述第二工作臺面和第四工作臺面之間，所述第三工作臺面的下方設有真空腔體。

中國專利申請號：201220438895.3，公開了一種防塵工作臺，其包括工作臺本體及與工作臺本體連接的吸塵系統，所述工作臺本體上設置有工作臺面，所述工作臺面上罩設有擋塵罩；所述吸塵系統包括吸塵主管、吸塵支管、連接管、吸塵器和電動機支座，所述吸塵主管下方連接至少一個吸塵支管，所述吸塵支管的一端與吸塵主管連通，另一端與工作臺本體連通，所述連接管一端連接在吸塵主管上，另一端連接在吸塵器上，所述電動機與吸塵器連接，用于驅動吸塵器運轉，所述吸塵器上開設有排氣口，用于將煙塵排出。

上述發明創造結構復雜，穩定性及可靠性較差。

實用新型內容

本實用新型的目的在于，克服現有技術的上述缺陷，提供一種結構合理，緊湊穩定，高可利用率，經濟方便的用于半導體多晶硅芯片加工的排氣式矩形工作臺。

為實現上述目的，本實用新型提供的技術方案如下：一種排氣式矩形工作臺，包括工作臺本體，所述工作臺本體的橫截面呈矩形狀，工作臺本體中開有若干第一軸向排氣槽及第二軸向排氣槽，第一軸向排氣槽與第二軸向排氣槽相互垂直交叉，工作臺本體上開有一排氣孔及多個放電通氣孔，排氣孔、多個放電通氣孔均分別設置于第一軸向排氣槽與第二軸向排氣槽交叉處，工作臺本體的中部設有連接頭，連接頭上設有多個通孔，通孔與放電通氣孔相貫通。

根據以上技術要求，所述若干第一軸向排氣槽相互平行且等距排列設置于工作臺本體上，若干第二軸向排氣槽相互垂直且等距排列設置于工作臺本體上。

根據以上技術要求，所述工作臺本體上開有一矩形排氣槽，第一軸向排氣槽與第二軸向排氣槽設置于矩形排氣槽的內側。

根據以上技術要求，所述若干第一軸向排氣槽將矩形排氣槽的兩條相鄰邊槽相互貫通，若干第二軸向排氣槽將矩形排氣槽的兩條相鄰邊相互貫通。

根據以上技術要求，所述工作臺本體的底沿凹設有多個定位槽，定位槽內開有一銷槽及一連接槽。

根據以上技術要求，所述銷槽中能設置定位銷或定位螺絲，所述連接槽中能設置有磁鐵或連接螺栓。

根據以上技術要求，所述工作臺本體的底端還凹設有限位槽，限位槽中能設置磁鐵。