[實(shí)用新型]一種刻蝕裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821526847.3
• 申請日: 2018-09-18
• 公開（公告）號: CN208861942U
• 公開（公告）日: 2019-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔水煒;萬肇勇;黃登強(qiáng);吳章平
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州昊建自動化系統(tǒng)有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 馬吉蘭

本實(shí)用新型提供了一種刻蝕裝置，包括：機(jī)架、刻蝕槽、多個噴淋裝置和輸水裝置。刻蝕槽設(shè)置在機(jī)架上并包括：貫穿刻蝕槽、并位于刻蝕槽內(nèi)部的多個相互平行設(shè)置的滾輪，滾輪沿軸向間隔均勻地設(shè)有多個凹槽；多個噴淋裝置固定在機(jī)架上，并且并列設(shè)置在刻蝕槽上方，刻蝕槽內(nèi)具有多個硅片工位，每個硅片工位上對應(yīng)一個噴淋裝置，并且多個噴淋裝置所成直線與滾輪平行，每個噴淋裝置具有噴水的第一狀態(tài)及未噴水的第二狀態(tài)；輸水裝置為噴淋裝置輸送液體，并且輸水裝置單獨(dú)控制一個噴淋裝置處于第一狀態(tài)或第二狀態(tài)。本實(shí)用新型的技術(shù)方案不會產(chǎn)生浪費(fèi)水的現(xiàn)象，并且各個硅片工位均能被噴淋到位。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及硅片刻蝕技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種刻蝕裝置。

背景技術(shù)

刻蝕技術(shù)是指半導(dǎo)體制造工藝，其中，濕法刻蝕是一個純粹的化學(xué)反應(yīng)過程，是指利用溶液與預(yù)刻蝕材料之間的化學(xué)反應(yīng)來去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而達(dá)到刻蝕目的。

現(xiàn)有技術(shù)中的刻蝕裝置還設(shè)置了噴淋裝置，以避免出現(xiàn)過刻現(xiàn)象。但是，這種噴淋裝置只有一個水泵和與水泵相連的總管，總管到達(dá)設(shè)備上再由支管進(jìn)行分流，這樣的設(shè)置方式會產(chǎn)生如下問題：只要有一個硅片被入料感應(yīng)器感應(yīng)到，噴淋裝置便開始噴淋，這樣便會造成水的浪費(fèi)；液體通過總管分流到每個硅片工位，靠近總管近的支管由于壓力充足，噴淋效果較好，但是兩側(cè)的支管由于遠(yuǎn)離總管便會產(chǎn)生壓力不足、噴淋不到位現(xiàn)象。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種刻蝕裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的刻蝕裝置的噴淋裝置易產(chǎn)生浪費(fèi)水的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供了一種刻蝕裝置，包括：機(jī)架、刻蝕槽、多個噴淋裝置和輸水裝置。刻蝕槽設(shè)置在機(jī)架上并包括：貫穿刻蝕槽、并位于刻蝕槽內(nèi)部的多個相互平行設(shè)置的滾輪，滾輪沿軸向間隔均勻地設(shè)有多個凹槽；多個噴淋裝置固定在機(jī)架上，并且并列設(shè)置在刻蝕槽上方，刻蝕槽內(nèi)具有多個硅片工位，每個硅片工位上對應(yīng)一個噴淋裝置，并且多個噴淋裝置所成直線與滾輪平行，每個噴淋裝置具有噴水的第一狀態(tài)及未噴水的第二狀態(tài)；輸水裝置為噴淋裝置輸送液體，并且輸水裝置單獨(dú)控制一個噴淋裝置處于第一狀態(tài)或第二狀態(tài)。

進(jìn)一步地，輸水裝置包括：水箱、多個進(jìn)水管、多個進(jìn)水管、多個第一控制閥和多個水泵，每個進(jìn)水管的一端與水箱連通，另一端與一個噴淋裝置連通；每個第一控制閥設(shè)置在一個進(jìn)水管上；每個水泵設(shè)置在機(jī)架上，并與一個噴淋裝置連通。

進(jìn)一步地，噴淋裝置包括：設(shè)置在機(jī)架上的連接件和固定在連接件上并與水泵連通的噴嘴。

進(jìn)一步地，輸水裝置還包括：PLC控制模塊和與PLC控制模塊電連接的入料檢測器，以使噴淋裝置處于第一狀態(tài)或第二狀態(tài)。

進(jìn)一步地，輸水裝置還包括與PLC控制模塊電連接的水位檢測器。

本實(shí)用新型技術(shù)方案，具有如下優(yōu)點(diǎn)：在實(shí)際工作過程中，滾輪帶動硅片運(yùn)動至噴淋裝置下部，如果一個噴淋裝置對應(yīng)的硅片工位上存在硅片，那么這個噴淋裝置既處于噴水的第一狀態(tài)；如果噴淋裝置對應(yīng)的硅片工位上不存在硅片，那么噴淋裝置則處于未噴水的第二狀態(tài)。這種設(shè)置方式便可以節(jié)約很多水資源，避免了不必要的浪費(fèi)。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對具體實(shí)施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實(shí)用新型的一些實(shí)施方式，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。在附圖中：

圖1示出了本實(shí)用新型的刻蝕裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

其中，上述附圖中的附圖標(biāo)記為：

1、硅片；10、機(jī)架；11、滾輪；21、水箱；22、進(jìn)水管；23、水泵； 31、連接件；32、噴嘴；40、總水管。

具體實(shí)施方式