[實用新型]電弧室和浸沒式等離子體槍

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821519444.6
• 申請日: 2018-09-17
• 公開（公告）號: CN208954933U
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曹旭東;倪明明;吳宗祐;林宗賢
• 申請（專利權(quán)）人: 德淮半導(dǎo)體有限公司
• 主分類號: H01J37/08
• 分類號: H01J37/08;H01J37/317
• 代理公司: 上海盈盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31294
• 代理人: 孫佳胤;董琳

本實用新型涉及一種電弧室，包括：室壁，所述室壁構(gòu)成一腔室；位于所述腔室內(nèi)且覆蓋所述室壁內(nèi)表面的襯板，所述襯板可拆卸地固定于所述室壁內(nèi)表面上。可以提高保養(yǎng)效率，有效清除所述電弧室內(nèi)產(chǎn)生的沉積物薄膜。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種電弧室和一種浸沒式等離子體槍。

背景技術(shù)

離子注入是半導(dǎo)體制造工藝中常用的離子摻雜工藝，在離子注入過程中，帶正電荷的離子撞擊被注入的晶圓，會導(dǎo)致正電荷積聚在晶圓的絕緣區(qū)域上，從而產(chǎn)生正表面電勢。在離子注入設(shè)備中，浸沒式等離子體槍(PFG，plasma flood gun)是產(chǎn)生電子的一種裝置，是離子注入設(shè)備的必備部件。PFG用于產(chǎn)生包括低能量電子的等離子體，使得低能量電子分配到用于離子注入的離子束中，傳輸?shù)骄A表面以中和晶圓表面的正電荷，從而減少由于正電荷積累對晶圓上半導(dǎo)體器件造成的損傷。

浸沒式等離子體槍包括電弧室(Arc chamber)，電弧室內(nèi)設(shè)置有電熱絲，通過對電熱絲供電將弧室內(nèi)氣體電離，產(chǎn)生等離子體。等離子體對電熱絲會造成轟擊，使得電熱絲材料被濺射出，在電弧室的內(nèi)壁表面形成一層沉積物薄膜，影響產(chǎn)品良率?，F(xiàn)有技術(shù)中，會對浸沒式等離子體槍進行預(yù)防性保養(yǎng)，以去除電弧室內(nèi)壁表面的沉積物薄膜，整個過程較為繁瑣，效率較低。每次去除電弧室內(nèi)壁表面的沉積物薄膜均會對浸沒式等離子體槍造成損耗，且如果清理不干凈，再次進行清理時，會增加停機時間，從而影響機臺產(chǎn)出。

實用新型內(nèi)容

本實用新型所要解決的技術(shù)問題是，提供一種電弧室和一種浸沒式等離子體槍，提高保養(yǎng)效果，縮短保養(yǎng)時間。

為了解決上述問題，本實用新型提供了一種電弧室，包括：室壁，所述室壁構(gòu)成一腔室；位于所述腔室內(nèi)且覆蓋所述室壁內(nèi)表面的襯板，所述襯板可拆卸地固定于所述室壁內(nèi)表面上。

可選的，所述室壁具有氣體入口以及離子束出口；所述襯板具有與所述氣體入口和離子束出口對應(yīng)的開口。

可選的，所述襯板與所述室壁的材料相同。

可選的，所述襯板為鎢板。

可選的，所述襯板的厚度為0.5cm～2cm。

可選的，所述襯板與所述室壁內(nèi)表面之間緊密貼合。

可選的，所述襯板包括兩個以上子襯板。

本實用新型的技術(shù)方案還提供一種浸沒式等離子體腔，包括上述電弧室。

本實用新型的電弧室內(nèi)部具有覆蓋室壁內(nèi)表面的襯板，電弧室內(nèi)產(chǎn)生等離子體的過程中形成的氣態(tài)雜質(zhì)不會與室壁表面直接接觸，而是與襯板表面接觸，在襯板表面形成沉積物薄膜。在需要去除沉積物薄膜時，只需要將襯板拆下進行清理，可以提高清理效率。

附圖說明

圖1為本實用新型一具體實施方式的電弧室的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型一具體實施方式的電弧室的截面示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本實用新型提供的一種電弧室和一種浸沒式等離子體槍的具體實施方式做詳細說明。

請參考圖1和圖2，圖1為本實用新型一具體實施方式的電弧室的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為所述電弧室沿圖1中割線AA'的截面示意圖。

所述電弧室100包括室壁101，所述室壁101構(gòu)成一腔室；位于所述電弧室100的腔室內(nèi)部且覆蓋所述室壁101內(nèi)表面的襯板102，所述襯板102可拆卸地固定于所述室壁101的內(nèi)表面上。