[實用新型]一種新型光敏二極管有效
| 申請號: | 201821501722.5 | 申請日: | 2018-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN208835083U | 公開(公告)日: | 2019-05-07 |
| 發明(設計)人: | 陳明輝;吳質樸;何畏;陳強 | 申請(專利權)人: | 深圳市奧倫德元器件有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/103 | 分類號: | H01L31/103 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 梁嘉琦 |
| 地址: | 518100 廣東省深圳市龍崗區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 切割道 二氧化硅區域 光敏二極管 切割 本征半導體層 本實用新型 漏電 切割區域 物理破壞 顏色區別 依次層疊 分辨 穿過 | ||
1.一種新型光敏二極管,其特征在于:包括p型電極(100)、p型半導體層(200)、本征半導體層(300)、n型半導體層(400)、SiO2層(500)和n型電極(600),所述p型電極(100)、p型半導體層(200)、本征半導體層(300)、n型半導體層(400)和SiO2層(500)依次層疊設置,所述SiO2層(500)的四周留有用于進行切割的切割道(900),所述n型電極(600)穿過SiO2層(500)連接至n型半導體層(400)。
2.根據權利要求1所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:還包括隔離環(700)和p截止區(800),所述隔離環(700)和p截止區(800)依次環繞層疊在所述n型半導體層(400)的四周,所述SiO2層(500)同時覆蓋在n型半導體層(400)、隔離環(700)和p截止區(800)的同一側面,所述SiO2層(500)的四周邊緣位于p截止區(800)的表面,且與所述p截止區(800)的四周邊緣之間留有所述的切割道(900)。
3.根據權利要求2所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:所述隔離環(700)為單晶層。
4.根據權利要求1所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:所述SiO2層(500)設置有引線孔(510),所述n型電極(600)穿過引線孔(510)連接至n型半導體層(400)。
5.根據權利要求4所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:所述n型電極(600)包括連通部(610)和用于外接焊線的延伸部(620),所述連通部(610)的一端穿過引線孔(510)連接至n型半導體層(400),另一端連接至延伸部(620),所述延伸部(620)設置在SiO2層(500)的表面。
6.根據權利要求5所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:所述引線孔(510)設置在SiO2層(500)的邊緣位置。
7.根據權利要求6所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:所述延伸部(620)的外型呈沿SiO2層(500)的外型布置。
8.根據權利要求7所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:所述延伸部(620)呈方形狀設置。
9.根據權利要求1所述的一種新型光敏二極管,其特征在于:所述p型電極(100)、p型半導體層(200)、本征半導體層(300)、n型半導體層(400)和SiO2層(500)的總體厚度為(300)nm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市奧倫德元器件有限公司,未經深圳市奧倫德元器件有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821501722.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:雙發電單元疊瓦光伏組件
- 下一篇:一種新型光耦
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





