[實用新型]真空腔充氣組件

有效

• 申請號: 201821488833.7
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN208949394U
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發明（設計）人: 林繼柱
• 申請（專利權）人: 君泰創新（北京）科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝

本申請涉及一種真空腔充氣組件，用于向真空腔體定義的真空腔內充氣，包括充氣組件和與所述充氣組件密閉連通的充氣緩沖管。所述充氣組件設置于所述真空腔體，用于向所述真空腔內部注入氣體。所述充氣緩沖管設置于所述真空腔內，所述充氣緩沖管包括管狀腔體，所述管狀腔體外表面開設有多個勻氣通孔組合，所述勻氣通孔組合與所述管狀腔體連通。上述真空腔充氣組件，通過設置所述充氣緩沖管，并在所述充氣緩沖管的管狀腔體開設所述多個勻氣通孔組合，可有效地控制氣體經過所述充氣組件后流入所述真空腔的位置和方向，同時保證充氣均勻性。進而提高PVD磁控濺射設備的運行節拍、穩定性和工作效率，同時有利于提高工藝的完整性。

技術領域

本申請涉及物理氣相沉積磁控濺射領域，特別是涉及一種真空腔充氣組件。

背景技術

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)磁控濺射設備為實現雙面濺射工藝并加快節拍時間，硅片載板無掩膜，且硅片直接放置于載板的下陷槽中。PVD磁控濺射設備的進、出片室采用過渡腔室連接真空濺射腔室與外部大氣，每次由外部傳片進入進、出片室，在經進、出片室抽真空，與真空濺射腔室連通傳片后，進、出片室需要重新恢復大氣壓力，此時出片室需要在含有硅片載板狀態下充氣。

但是，傳統的PVD磁控濺射設備的充氣裝置通常直接安裝到腔室法蘭口上，直接安裝充氣裝置，會造成腔室內部充氣不均勻，氣流方向不穩定，氣流會直接吹飛硅片。充氣造成的壓力改變會導致硅片破裂。

實用新型內容

基于此，有必要針對真空濺射腔室直接安裝充氣裝置會導致硅片吹飛或破裂問題，提供一種真空腔充氣組件。

一種真空腔充氣組件，用于向真空腔體定義的真空腔內充氣，包括：

充氣組件，設置于所述真空腔體，用于向所述真空腔內部注入氣體；以及

與所述充氣組件密閉連通的充氣緩沖管，設置于所述真空腔內，所述充氣緩沖管包括管狀腔體，所述管狀腔體外表面開設有多個勻氣通孔組合，所述勻氣通孔組合與所述管狀腔體連通。

上述真空腔充氣組件，通過設置所述充氣緩沖管，并在所述充氣緩沖管的管狀腔體外表面開設所述多個勻氣通孔組合，可以有效地控制氣體經過所述充氣組件后流入所述真空腔的位置和方向，同時保證充氣的均勻性。進而提高所述PVD磁控濺射設備的運行節拍及穩定性，有利于提高工藝的完整性，并促進所述PVD磁控濺射設備工作效率的提高。

在其中一個實施例中，所述充氣緩沖管的形狀為一字型、L型或者U型。

在其中一個實施例中，所述管狀腔體包圍形成一個氣體緩沖腔，所述氣體緩沖腔與所述充氣組件密閉連通。

在其中一個實施例中，還包括腔體充氣管，設置于所述真空腔體，并與所述管狀腔體密閉連通，所述充氣組件通過所述腔體充氣管與所述管狀腔體密閉連通。

在其中一個實施例中，所述充氣組件為充氣控制角閥，與所述腔體充氣管法蘭連接。

在其中一個實施例中，所述真空腔體開設有安裝通孔，所述腔體充氣管插入所述安裝通孔，并與所述真空腔體密閉連接。

在其中一個實施例中，所述充氣緩沖管還包括安裝法蘭，密閉連接于與所述安裝通孔，并將所述管狀腔體與所述腔體充氣管密閉連接。

在其中一個實施例中，所述安裝法蘭焊接于所述充氣緩沖管。

在其中一個實施例中，所述勻氣通孔組合包括兩個勻氣通孔，兩個所述勻氣通孔的連線與所述管狀腔體的軸線相交，且兩個所述勻氣通孔的連線和所述管狀腔體的軸線確定的平面與所述安裝法蘭的軸線垂直。

在其中一個實施例中，所述充氣緩沖管沿所述真空腔體內壁延伸設置。

在其中一個實施例中，所述勻氣通孔組合沿所述管狀腔體的延伸方向設置。