[實(shí)用新型]光學(xué)位置檢測(cè)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821476182.X
• 申請(qǐng)日: 2018-09-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208795163U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡進(jìn)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州億拓光電科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01B11/00
• 分類(lèi)號(hào): G01B11/00
• 代理公司: 蘇州謹(jǐn)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 仲崇明

本申請(qǐng)公開(kāi)了一種光學(xué)位置檢測(cè)裝置，該裝置包括：光源；第一反射鏡，可將來(lái)自光源的入射光束以一定傾角入射在工件的待測(cè)表面；橫向偏移放大鏡組，可將待測(cè)表面的反射光束進(jìn)行橫向偏移放大后入射至探測(cè)器；探測(cè)器。本實(shí)用新型的檢測(cè)裝置，采用獨(dú)立的光路，且采用斜入射方式，可以避開(kāi)其它光路占據(jù)的空間位置，而且裝置簡(jiǎn)單可靠，成本低廉。而且精度高，可以將工件表面的位置變化放大50～100倍，可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)的位置檢測(cè)。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及光學(xué)加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種光學(xué)位置檢測(cè)裝置。

背景技術(shù)

光學(xué)位置檢測(cè)方法具有非接觸、高精度和響應(yīng)快速等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于定位控制和產(chǎn)品形貌檢測(cè)等領(lǐng)域。

現(xiàn)有的光學(xué)位置檢測(cè)方法有多種：共焦法(也稱(chēng)為共軛焦法，多見(jiàn)于激光共焦顯微鏡)、三角法(在當(dāng)前商用的激光位移傳感器中被廣泛采用)、干涉法(例如雙頻激光干涉儀)、像散法(光驅(qū)的伺服聚焦即采用改法，也用于精密光學(xué)加工，例如專(zhuān)利201010170978.4)等等。

在特殊的情況下，以上方法難以滿(mǎn)足需求。例如：已經(jīng)有其它光路占據(jù)了工件待測(cè)位置的正上方，此時(shí)光路位置已被侵占，技術(shù)方案無(wú)法實(shí)施。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種光學(xué)位置檢測(cè)裝置，以克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)一種光學(xué)位置檢測(cè)裝置，包括：

光源；

第一反射鏡，可將來(lái)自光源的入射光束以一定傾角入射在工件的待測(cè)表面；

橫向偏移放大鏡組，可將待測(cè)表面的反射光束進(jìn)行橫向偏移放大后入射至探測(cè)器；

探測(cè)器。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，定義一加工空間，該加工空間位于工件待測(cè)表面垂直上方，

所述光源、第一反射鏡、橫向偏移放大鏡組和探測(cè)器均位于所述加工空間外。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，所述光源和第一反射鏡位于所述加工空間的一側(cè)，

橫向偏移放大鏡組和探測(cè)器位于所述加工空間的另外一側(cè)。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，所述橫向偏移放大鏡組包括棱鏡，該棱鏡可將待測(cè)表面的反射光束進(jìn)行橫向偏移放大。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，來(lái)自待測(cè)表面的反射光束自棱鏡的一個(gè)A面進(jìn)入，并從棱鏡的B面射出，

其中A面與待測(cè)表面平行。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，所述棱鏡可將進(jìn)入的反射光束進(jìn)行橫向偏移放大8倍。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，所述橫向偏移放大鏡組包括擴(kuò)束鏡組，所述擴(kuò)束鏡組設(shè)置于探測(cè)器和棱鏡之間，

該擴(kuò)束鏡組可將待測(cè)表面的反射光束進(jìn)行橫向偏移放大。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，所述擴(kuò)束鏡組可將進(jìn)入的反射光束進(jìn)行橫向偏移放大5～20倍。

優(yōu)選的，在上述的光學(xué)位置檢測(cè)裝置中，所述擴(kuò)束鏡組和棱鏡之間設(shè)置有第二反射鏡，

所述擴(kuò)束鏡組和第二反射鏡依次設(shè)置于探測(cè)器的正下方。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：本實(shí)用新型的檢測(cè)裝置和方法，采用獨(dú)立的光路，且采用斜入射方式，可以避開(kāi)其它光路占據(jù)的空間位置，而且裝置簡(jiǎn)單可靠，成本低廉。而且精度高，可以將工件表面的位置變化放大50～100倍，可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)的位置檢測(cè)。

附圖說(shuō)明