[實用新型]一種調整工具有效
| 申請號: | 201821475713.3 | 申請日: | 2018-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN209162190U | 公開(公告)日: | 2019-07-26 |
| 發明(設計)人: | 鄭高鋒 | 申請(專利權)人: | 武漢新芯集成電路制造有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/46 | 分類號: | C23C16/46;C23C16/52 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 俞滌炯 |
| 地址: | 430205 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加熱裝置 調整工具 固定架 本實用新型 垂直 水平部 水平度 垂直運動方向 化學氣相沉積 調整部件 定量調節 鍍膜過程 承托面 承托 調機 直觀 保存 維修 觀察 員工 | ||
本實用新型提供一種調整工具,用于調整在化學氣相沉積工藝在鍍膜過程中的加熱裝置的水平度,包括:一對固定架,固定架包括:水平部,水平部提供一承托面用以承托加熱裝置;垂直部,垂直部用以抵靠于加熱裝置的調節部件,垂直部設置有刻度值,刻度值對應于調節部件的垂直運動方向。本實用新型的技術方案有益效果在于:將調整工具安裝于加熱裝置上,可以通過直觀觀察固定架上的刻度值來調節加熱裝置的調整部件,以調整加熱裝置的水平度,可以定量調節,方便數據的保存及后續的維修,并且不僅適用于經驗豐富的技術人員的操作,也可適用于新員工的操作,進而減少了加熱裝置的調機時間。
技術領域
本實用新型涉及半導體檢測設備技術領域,尤其涉及一種調整在化學氣相沉積工藝在鍍膜過程中的加熱裝置的水平度的調整工具。
背景技術
化學氣相沉積是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。
化學氣相沉積工藝在鍍膜過程中,氣體在噴頭與加熱裝置之間會發生化學反應,均勻地在晶圓表面沉積呈薄膜。但噴頭與加熱裝置的距離會影響薄膜沉積的速率,進而影響膜的厚度,為了保證膜后的均一性,需保證加熱裝置的水平度。目前,通過人工操作來調節加熱裝置的水平度,人工使用扳手調節螺栓的上升與下降,以調節加熱裝置的水平度,但是通過人工操作無法一次成功,浪費調機時間,并且只能通過經驗豐富的技術人員進行調節,新員工無法快速上手,進而降低了檢測機臺的運行時間。
發明內容
針對現有技術中存在的上述問題,現提供一種結構簡單、易于操作的調整工具。
具體技術方案如下:
一種調整工具,用于調整在化學氣相沉積工藝在鍍膜過程中的加熱裝置的水平度,其中包括:
一對固定架,所述固定架包括:
一水平部,所述水平部提供一承托面用以承托所述加熱裝置;
一垂直部,所述垂直部用以抵靠于所述加熱裝置的調節部件,所述垂直部設置有刻度值,所述刻度值對應于所述調節部件的垂直運動方向。
優選的,所述垂直部的一端連接水平部的一端。
優選的,所述垂直部連接于所述承托面的背面一側邊的中點。
優選的,所述垂直部成片狀,所述垂直部的橫截面中軸垂直于所述側邊。
優選的,所述水平部上具有一固定結構,通過所述固定結構固定于所述加熱裝置上。
優選的,所述固定結構為螺紋孔以及配合所述螺紋孔的螺栓。
優選的,所述螺紋孔的直徑為1-10mm。
優選的,所述水平部的長度為100-300mm;和/或
所述水平部的寬度為50-200mm;和/或
所述水平部的厚度為5-20mm。
優選的,于所述水平部遠離所述垂直部的一端具有一背向所述加熱裝置的斜面,
和或
所述垂直部的下端具有一背向所述調節部件的斜角。
優選的,所述調整工具由不銹鋼材料制成。
本實用新型的技術方案有益效果在于:將調整工具安裝于加熱裝置上,可以通過直觀觀察固定架上的刻度值來調節加熱裝置的調節部件,以調整加熱裝置的水平度,可以定量調節,方便數據的保存及后續的維修,并且不僅適用于經驗豐富的技術人員的操作,也可適用于新員工的操作,進而減少了加熱裝置的調機時間。
附圖說明
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





