[實用新型]一種穩定鍍膜的載片裝置有效
| 申請號: | 201821456970.2 | 申請日: | 2018-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN208965031U | 公開(公告)日: | 2019-06-11 |
| 發明(設計)人: | 楊寶立;余仲;張勇;伍波 | 申請(專利權)人: | 深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/513;H01L21/673 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知識產權代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彥;胡朝陽 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗區橫*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨舟片 石英托架 載片裝置 鍍膜 本實用新型 減反射膜 石墨組件 石英爐管 硅片 垂直 加熱爐管 間隔連接 中心輻射 軸線垂直 軸線設置 左右兩側 表面鍍 反應爐 有效地 產能 送入 阻擋 保證 | ||
本實用新型公開了一種用于硅片的表面鍍減反射膜的穩定鍍膜的載片裝置,其包括:石英托架,設于該石英托架中的石墨舟片組件,該石墨組件由垂直所述石英托架軸線的石墨舟片間隔連接而成。本實用新型使得石墨組件的石墨舟片垂直于石英托架的軸線設置。當該載片裝置送入石英爐管時,石墨舟片與石英爐管的軸線垂直,有效地避免了左右兩側石墨舟片對加熱爐管熱量向中心輻射的阻擋,從而保證處于石墨舟片之間的硅片減反射膜鍍膜均勻和工藝的穩定性,以提升PECVD反應爐的產能。
技術領域
本實用新型涉及光伏行業硅片加工領域,尤其涉及一種將太陽能硅片送入石英爐管進行表面鍍減反射膜的載片裝置。
背景技術
在光伏行業,PECVD用于對單晶硅片、多晶硅片的表面鍍減反射膜。隨著光伏行業的不斷發展,太陽能電池片生產已經進入精細化管理,客戶對制造太陽能電池片設備的產能、減反射膜均勻性、制作工藝的穩定性要求越來越高。石墨舟是硅片的載具,其結構對設備的產能及工藝的穩定性起到至關重要的作用。如圖2所示為原有石墨舟載硅片的結構示意圖,圖1所示為載有硅片的石墨舟放置于石英爐管的中的示意圖。當石墨舟01送入與石英爐管04中時,石墨舟中的石墨舟片02和硅片03平面正好與石英爐管04截面的縱軸平行,而加熱爐管的加熱是由爐管外圓徑向向中心輻射的,由圖2可見,石墨舟01左右兩側的石墨舟片02阻擋了加熱爐管的熱量向中心輻射。隨著產能的增加,裝載在石墨舟兩側的硅片03與中心、爐口及爐尾位置的硅片03減反射膜鍍膜均勻性變差,這也就限制了制作減反射膜的工藝窗口,最后導致工藝穩定性差。傳統的PECVD反應爐石墨舟片排列方式限制了設備未來繼續提升產能的空間。
因此,如何克服現有加熱石英爐管的熱量輻射受阻,以致石墨舟中的硅片減反射膜鍍膜不均勻的缺陷是業界亟待解決的問題。
實用新型內容
本實用新型為了解決現有加熱石英爐管的熱量輻射受阻,以致石墨舟中的硅片減反射膜鍍膜不均勻的技術問題,提出這一種不會阻擋加熱爐管熱量輻射的石墨舟片的排列方式,從而保證減反射膜鍍膜均勻和工藝穩定的載片裝置。
本實用新型提出的一種穩定鍍膜的載片裝置,其包括:石英托架,設于該石英托架中的石墨舟片組件,該石墨組件由垂直所述石英托架軸線的石墨舟片間隔連接而成。
優選的,所述的石英托架包括兩側板、連接該兩側板上部的兩根上槽棒,連接該兩側板下部的至少一根下槽棒,所述的上槽棒分別設于所述兩側板的橫向兩側,所述側板的下側邊設有對應卡入所述石墨舟片組件的卡槽。
其中,所述下槽棒的上表面設有支撐所述石墨舟片底邊的下槽棒齒槽。
而所述上槽棒的內表面也設有支撐所述石墨舟片兩側邊的上槽棒齒槽。
所述側板的外側面還設有把手。
優選的,所述的石墨舟片組件由正、負極石墨舟片間隔排列,并通過陶瓷桿將正極石墨舟片、負極石墨舟片分別電性連接成具有間隙的排列;通過將正極石墨舟片、負極石墨舟片分別電性連接的陶瓷桿引出正極舟腳、負極舟腳,所述石英托架側板的下側邊的卡槽對應卡入所述的正極舟腳、負極舟腳。
較優的,所述石墨舟片組件上部兩側各有一根陶瓷桿和石墨舟片組件下部設有兩根陶瓷桿將所述的正極石墨舟片、負極石墨舟片分別間隔串接起來。
較優的,所述的石墨舟片組件下部的一側的兩根陶瓷桿端引出所述的正極舟腳,其連通套在上方兩根陶瓷桿上的導電套將所述的正極石墨舟片電性連接起來;所述的石墨舟片組件下部的另一側的兩根陶瓷桿端引出所述的負極舟腳,其連通套在下方兩根陶瓷桿上的導電套將所述的負極石墨舟片電性連接起來。
較優的,所述的正、負極舟腳為固定連接于所述下部陶瓷桿端上的石墨U形塊,所述石英托架側板的下側邊的卡槽對應卡入所述U形塊凹下的溝槽中。
較優的,所述正、負極石墨舟片的表面設有多個硅片卡點。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





