[實用新型]一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置

有效

• 申請號: 201821418955.9
• 申請日: 2018-08-30
• 公開（公告）號: CN208787477U
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: 張磊;郭校亮;陳良杰;劉勛海
• 申請（專利權）人: 青島藍光晶科新材料有限公司
• 主分類號: B22D11/055
• 分類號: B22D11/055;B22D11/14;B22D11/10;C23C14/34
• 代理公司: 青島發思特專利商標代理有限公司 37212
• 代理人: 鞏同海

1.一種一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，包括爐體(8)、送料機構(9)、坩堝(10)、水冷模塊、電子槍(12)、真空系統和充氣結構(13)，所述爐體(8)分為爐室和電子槍(12)室，所述水冷模塊包括水冷模具和設于該水冷模具下方的水冷拉錠機構(11)；真空系統和充氣結構(13)分別與爐室和電子槍(12)室相連，坩堝(10)設于爐室內部，送料機構(9)的送料口設于坩堝(10)上方，坩堝(10)的出流口(14)設于水冷模具的儲液區(3)的上方，水冷模具和坩堝(10)的上方設有電子槍(12)，其特征在于，所述坩堝(10)設有不少于2個出流口(14)，每個出流口(14)的下方均設有一個水冷模塊。

2.根據權利要求1所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述坩堝(10)設有2個出流口(14)，2個出流口(14)相對設置在坩堝(10)的兩側。

3.根據權利要求1所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述水冷模塊的規格相同。

4.根據權利要求1所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述水冷模塊的規格至少有2種。

5.根據權利要求1所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述水冷模具包括中心部分和外圍部分，中心部分包括第一水冷盤(1)，外圍部分包括第二水冷盤(2)，第二水冷盤(2)設有第一通孔，所述第一通孔的孔徑大于第一水冷盤(1)的外徑，第一水冷盤(1)放置在第一通孔中，第一水冷盤(1)外徑和第一通孔內徑之間的空間為儲液區(3)；所述外圍部分和中心部分均設有冷卻水通路(4)。

6.根據權利要求5所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述中心部分還包括固定于第一水冷盤(1)下方的管狀件(7)，所述冷卻水通路(4)開設于管狀件(7)內部并通入第一水冷盤(1)內部。

7.根據權利要求5所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述第一水冷盤(1)為圓形水冷盤，第二水冷盤(2)為環狀水冷盤，所述第一水冷盤(1)和第二水冷盤(2)呈同心圓設置；所述水冷拉錠機構(11)包括臺面(1101)和與臺面(1101)固定連接的支座(1102)，所述臺面(1101)設于第二水冷盤(2)和第一水冷盤(1)的下方，臺面(1101)和支座(1102)開設有第二通孔，管狀件(7)穿過所述第二通孔。

8.根據權利要求6所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述管狀件(7)沿軸向開設有進水孔(5)，進水孔(5)的周圍設有環形出水孔(6)，進水孔(5)和環形出水孔(6)通過第一水冷盤(1)內部的冷卻水通路(4)連通。

9.根據權利要求5所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述第一水冷盤(1)的上棱邊和第二水冷盤(2)第一通孔的上棱邊設有倒角(20)。

10.根據權利要求5所述的一堝多模制備難熔稀有金屬靶的裝置，其特征在于，所述第一水冷盤(1)的厚度和第二水冷盤(2)的厚度為80-120mm，第一水冷盤(1)的厚度和第二水冷盤(2)的厚度相同。