[實用新型]涂敷處理裝置和涂敷液捕集構件

有效

• 申請號: 201821405221.7
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN209020671U
• 公開（公告）日: 2019-06-25
• 發明（設計）人: 上村良一
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02;H01L21/027
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種涂敷處理裝置，其特征在于，

該涂敷處理裝置具備：

基板保持部，其水平地保持基板并繞鉛垂軸線旋轉；

涂敷液供給部，其向保持到所述基板保持部的基板供給高粘度的涂敷液；

杯體，其以包圍所述基板保持部上的基板的方式設置；

環狀的排氣路徑，其沿著所述杯體的周向形成于所述杯體的內周面與設置于所述杯體的內部的內側構件之間；

涂敷液捕集構件，其以覆蓋所述排氣路徑的方式設置，具備從上方側連通到下方側的開口部，并且用于對從旋轉的基板飛散的所述涂敷液進行捕集；

溶劑積存部，其設置于所述涂敷液捕集構件，積存用于使被涂敷液捕集構件捕集到的所述涂敷液溶解的溶劑；以及

溶劑供給部，其向所述溶劑積存部供給溶劑。

2.根據權利要求1所述的涂敷處理裝置，其特征在于，

所述溶劑積存部沿著所述排氣路徑的周向設置有多個。

3.根據權利要求2所述的涂敷處理裝置，其特征在于，

所述多個溶劑積存部由沿著排氣路徑的周向延伸的連通路徑相互連通。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的涂敷處理裝置，其特征在于，

所述溶劑積存部以沿著杯體的徑向延伸的方式設置。

5.根據權利要求1～3中任一項所述的涂敷處理裝置，其特征在于，

所述溶劑供給部是朝向被保持到所述基板保持部的基板的背面供給溶劑的背面側溶劑供給部，

從背面側溶劑供給部供給并由于基板的旋轉而甩開了的溶劑向所述溶劑積存部補充。

6.根據權利要求1～3中任一項所述的涂敷處理裝置，其特征在于，

所述溶劑供給部是朝向被保持到所述基板保持部的基板的表面供給溶劑的溶劑噴嘴，

從溶劑噴嘴供給并由于基板的旋轉而被甩開了的溶劑向所述溶劑積存部補充。

7.根據權利要求1～3中任一項所述的涂敷處理裝置，其特征在于，

所述溶劑供給部在杯體的內部沿著杯體的周向構成為設置有溶劑噴出孔的環狀。

8.一種涂敷液捕集構件，該涂敷液捕集構件用于涂敷裝置，該涂敷裝置構成為，向水平地保持到在杯體內設置的基板保持部的基板供給涂敷液，將由于基板的旋轉而被甩開了的涂敷液經由沿著杯體的周向形成于杯體的內周面與內側構件之間的環狀的排氣路徑排出，該涂敷液捕集構件以覆蓋所述排氣路徑的方式設置，其特征在于，

該涂敷液捕集構件用于權利要求1～7中任一項所述的涂敷處理裝置。